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統(tǒng)計顯示韓國半導(dǎo)體設(shè)備依然嚴重依賴日本

來源: 中電網(wǎng)
2020-09-08
類別:業(yè)界動態(tài)
eye 41
文章創(chuàng)建人 拍明

原標題:統(tǒng)計顯示韓國半導(dǎo)體設(shè)備依然嚴重依賴日本

一、現(xiàn)狀:依賴程度依然顯著

  1. 數(shù)據(jù)支撐

    • 光刻膠:日本信越化學(xué)、JSR等企業(yè)占據(jù)全球90%以上市場份額,韓國三星、SK海力士依賴度超95%。

    • 高純度氟化氫:日本Stella Chemifa等企業(yè)壟斷全球70%產(chǎn)能,韓國進口依賴度達80%。

    • 陶瓷部件:日本京瓷、NGK Insulators在晶圓制造設(shè)備用陶瓷部件市場占比超60%。

    • 根據(jù)韓國產(chǎn)業(yè)通商資源部(MOTIE)及韓國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)協(xié)會(KSIA)統(tǒng)計,2023年韓國半導(dǎo)體設(shè)備進口總額中,日本占比仍高達30%-35%,尤其在關(guān)鍵零部件領(lǐng)域依賴度更高。

    • 細分領(lǐng)域:

  2. 對比歷史

    • 2019年日本對韓實施半導(dǎo)體材料出口管制后,韓國曾提出“材料、零部件、設(shè)備國產(chǎn)化”目標,計劃到2025年將關(guān)鍵材料自給率從30%提升至70%。但截至2023年,實際自給率僅提升至45%,核心設(shè)備依賴度未顯著下降。


二、依賴原因:技術(shù)壁壘與產(chǎn)業(yè)生態(tài)差異

1. 技術(shù)積累與專利壁壘

  • 日本優(yōu)勢

    • 日本企業(yè)自1970年代起布局半導(dǎo)體材料與設(shè)備,積累大量核心專利(如光刻膠配方、氟化氫提純技術(shù))。

    • 案例:日本信越化學(xué)的光刻膠通過調(diào)整分子結(jié)構(gòu)實現(xiàn)28nm以下制程的均勻涂布,技術(shù)門檻極高。

  • 韓國短板

    • 韓國企業(yè)(如SKC Kolon PI、東進世美肯)在光刻膠、氟化氫等領(lǐng)域起步較晚,技術(shù)差距約5-10年。

2. 產(chǎn)業(yè)生態(tài)與供應(yīng)鏈慣性

  • 日本模式

    • 日本材料企業(yè)與設(shè)備商(如東京電子、Screen)形成緊密協(xié)作,通過“產(chǎn)學(xué)研用”聯(lián)合研發(fā)(如與東京大學(xué)、理化學(xué)研究所合作)保持技術(shù)領(lǐng)先。

  • 韓國模式

    • 韓國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)以“設(shè)計-制造-封測”垂直整合為主,材料與設(shè)備環(huán)節(jié)長期依賴外部供應(yīng)商,本土生態(tài)薄弱。

    • 案例:三星電子雖投入巨資研發(fā)材料,但因缺乏下游設(shè)備商協(xié)同,難以快速替代日本產(chǎn)品。

3. 成本與規(guī)模效應(yīng)

  • 日本成本優(yōu)勢

    • 日本企業(yè)通過長期技術(shù)迭代實現(xiàn)低成本生產(chǎn)(如氟化氫提純能耗降低30%),韓國企業(yè)短期內(nèi)難以匹配。

  • 韓國替代困境

    • 韓國本土材料企業(yè)因訂單量不足(僅占全球市場5%-10%),難以分攤研發(fā)與設(shè)備投入,陷入“成本高-訂單少-技術(shù)落后”的惡性循環(huán)。

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三、影響分析:風險與機遇并存

1. 風險:供應(yīng)鏈安全與地緣政治

  • 短期風險

    • 日本可能再次通過出口管制施壓(如2019年事件),導(dǎo)致韓國半導(dǎo)體生產(chǎn)中斷。

    • 案例:2019年日本限制氟化氫出口后,三星電子庫存僅能維持2-3個月生產(chǎn)。

  • 長期風險

    • 韓國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)可能因“卡脖子”環(huán)節(jié)受制于人,影響全球競爭力。

2. 機遇:國產(chǎn)替代與產(chǎn)業(yè)升級

  • 政策推動

    • 韓國政府通過《K-半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)帶》計劃,2021-2030年投入510萬億韓元(約4000億美元),重點扶持材料與設(shè)備國產(chǎn)化。

  • 企業(yè)行動

    • 三星電子成立“材料與設(shè)備創(chuàng)新中心”,與本土企業(yè)聯(lián)合研發(fā),計劃到2027年將關(guān)鍵材料自給率提升至60%。

    • 案例:SK海力士與東進世美肯合作開發(fā)EUV光刻膠,2023年實現(xiàn)28nm制程驗證。


四、未來展望:依賴度下降趨勢與挑戰(zhàn)

1. 短期(2023-2025年)

  • 依賴度或小幅下降:韓國通過多元化采購(如增加中國、美國供應(yīng)商)和本土替代,預(yù)計將日本依賴度從35%降至30%。

  • 關(guān)鍵領(lǐng)域突破

    • 氟化氫:韓國SoulBrain等企業(yè)實現(xiàn)4N級(99.99%)產(chǎn)品量產(chǎn),但5N級(99.999%)仍依賴日本。

    • 光刻膠:本土企業(yè)計劃2025年實現(xiàn)ArF光刻膠量產(chǎn),但EUV光刻膠仍需5-10年。

2. 長期(2025年后)

  • 依賴度或長期存在

    • 核心材料(如EUV光刻膠、高純度硅部件)的技術(shù)壁壘極高,韓國完全替代可能需10年以上。

  • 產(chǎn)業(yè)格局變化

    • 韓國可能形成“日韓互補+多國備份”的供應(yīng)鏈體系,降低單一國家依賴風險。


五、總結(jié)

韓國半導(dǎo)體設(shè)備對日本的依賴是技術(shù)積累、產(chǎn)業(yè)生態(tài)與成本效益共同作用的結(jié)果。盡管韓國通過政策與資金投入加速國產(chǎn)替代,但短期內(nèi)難以徹底擺脫對日本的依賴。

核心結(jié)論

  • 現(xiàn)狀:日本在光刻膠、氟化氫等關(guān)鍵領(lǐng)域仍占據(jù)主導(dǎo),韓國依賴度超30%。

  • 原因:技術(shù)壁壘、供應(yīng)鏈慣性、成本劣勢是主要制約因素。

  • 影響:供應(yīng)鏈風險與國產(chǎn)替代機遇并存,韓國需平衡“自主可控”與“全球化合作”。

  • 未來:依賴度或逐步下降,但完全替代需長期技術(shù)突破與生態(tài)建設(shè)。

韓國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的“去日本化”之路,本質(zhì)上是全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈分工與地緣政治博弈的縮影,其經(jīng)驗對中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)亦有借鑒意義。


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