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隨著前景黯淡,c削減擴(kuò)張計(jì)劃

來(lái)源: eetasia
2022-07-19
類別:業(yè)界動(dòng)態(tài)
eye 18
文章創(chuàng)建人 拍明芯城

原標(biāo)題:隨著前景黯淡,臺(tái)積電削減擴(kuò)張計(jì)劃

關(guān)于臺(tái)積電削減擴(kuò)張計(jì)劃的情況,盡管當(dāng)前半導(dǎo)體市場(chǎng)面臨一些挑戰(zhàn)和前景的不確定性,但根據(jù)我所掌握的信息,臺(tái)積電在近期并未公開(kāi)宣布削減其擴(kuò)張計(jì)劃。相反,從參考文章中可以提煉出以下關(guān)于臺(tái)積電擴(kuò)張計(jì)劃的信息:

  1. 新建工廠與產(chǎn)能提升

    • 臺(tái)積電在2024年計(jì)劃新建七座工廠,包括5座晶圓廠和2座先進(jìn)封裝廠。

    • 該公司預(yù)計(jì)2024年的3nm產(chǎn)能將達(dá)到去年的四倍,即同比增長(zhǎng)300%。

    • 臺(tái)積電還計(jì)劃在歐洲、臺(tái)灣等地進(jìn)行海外擴(kuò)張,如德國(guó)德累斯頓的首座晶圓廠預(yù)計(jì)于2027年投產(chǎn)。

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  1. 特色工藝產(chǎn)能提升

    • 臺(tái)積電目標(biāo)到2027年將特色工藝產(chǎn)能提升50%,并推出N4e技術(shù)作為最新利器。

    • N4e技術(shù)是一個(gè)4納米級(jí)別的超低功耗生產(chǎn)節(jié)點(diǎn),旨在支持低于0.4V的電壓操作。

  2. 對(duì)先進(jìn)制程的壟斷與市場(chǎng)需求

    • 臺(tái)積電在先進(jìn)工藝芯片市場(chǎng)上具有顯著優(yōu)勢(shì),其5nm和7nm制程工藝的市場(chǎng)份額分別高達(dá)90%和85%。

    • 盡管面臨市場(chǎng)需求疲軟的挑戰(zhàn),但臺(tái)積電在先進(jìn)制程芯片領(lǐng)域的壟斷地位有助于其抵御行業(yè)低迷的不利影響。

然而,雖然臺(tái)積電在擴(kuò)張計(jì)劃上保持積極態(tài)度,但也需要考慮到市場(chǎng)環(huán)境的變化和客戶需求的不確定性。在全球經(jīng)濟(jì)波動(dòng)和半導(dǎo)體行業(yè)周期性調(diào)整的背景下,臺(tái)積電可能需要靈活調(diào)整其擴(kuò)張策略,以應(yīng)對(duì)潛在的市場(chǎng)風(fēng)險(xiǎn)。

綜上所述,盡管目前沒(méi)有公開(kāi)信息顯示臺(tái)積電削減了其擴(kuò)張計(jì)劃,但公司可能需要根據(jù)市場(chǎng)環(huán)境和客戶需求的變化來(lái)靈活調(diào)整其戰(zhàn)略。臺(tái)積電作為全球領(lǐng)先的半導(dǎo)體制造商,其未來(lái)的擴(kuò)張計(jì)劃和戰(zhàn)略調(diào)整將受到業(yè)界的密切關(guān)注。


責(zé)任編輯:David

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標(biāo)簽: 臺(tái)積電 TSMC

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