什么是半導體芯片,半導體芯片的基礎(chǔ)知識?


半導體芯片:現(xiàn)代科技的基石
半導體芯片,又稱集成電路(Integrated Circuit, IC),是現(xiàn)代電子設(shè)備的核心組成部分。從智能手機、電腦、家用電器,到汽車、醫(yī)療設(shè)備、航空航天,幾乎所有需要計算、存儲和處理信息的系統(tǒng)都離不開半導體芯片。它們是信息時代的“大腦”和“神經(jīng)系統(tǒng)”,驅(qū)動著科技的飛速發(fā)展和社會生活的智能化進程。理解半導體芯片,就是理解我們所處數(shù)字世界的運行原理。
一、什么是半導體芯片?
從最基本的概念來說,半導體芯片是將大量的微型電子元件(如晶體管、電阻、電容等)通過精密的制造工藝集成在一塊半導體材料(通常是硅)基片上的微型電子器件。這些元件通過微觀的導線連接起來,形成一個復雜的電路,能夠執(zhí)行特定的功能,例如計算、存儲、放大信號或控制其他設(shè)備。
“半導體”一詞指的是其導電能力介于導體(如銅)和絕緣體(如玻璃)之間的一類材料。在特定條件下,通過摻雜少量雜質(zhì)或施加外部能量,半導體材料的導電性可以被精確控制。正是這種獨特的性質(zhì),使得半導體材料成為制造晶體管等電子開關(guān)元件的理想選擇,從而奠定了現(xiàn)代電子技術(shù)的基礎(chǔ)。
集成電路之所以被稱為“芯片”,是因為它們通常以一塊薄而平坦的封裝形式出現(xiàn),形狀類似于一個小的芯片。然而,在其微觀結(jié)構(gòu)中,卻蘊含著令人難以置信的復雜性和功能。一塊指甲蓋大小的芯片可能集成了數(shù)十億個晶體管,其復雜程度遠超人類肉眼所能想象。
二、半導體芯片的基礎(chǔ)知識
要深入理解半導體芯片,我們需要掌握以下幾個核心基礎(chǔ)概念:
1. 半導體材料:硅(Silicon)的霸主地位
盡管有多種半導體材料,如鍺(Germanium)、砷化鎵(Gallium Arsenide)等,但硅(Si)無疑是半導體工業(yè)中最主要的材料。地球上儲量豐富、易于提純、熱穩(wěn)定性好以及能夠形成穩(wěn)定的氧化硅層(在制造過程中具有重要作用)等特點,使得硅成為制造芯片的理想選擇。
制造芯片首先需要高純度的單晶硅。通過熔融高純度多晶硅并緩慢冷卻拉伸,可以生長出圓柱狀的單晶硅棒,稱為“硅錠”。這些硅錠隨后被切割成薄薄的圓形硅片,即“晶圓”(Wafer),作為制造芯片的基底。晶圓的直徑大小(如6英寸、8英寸、12英寸甚至未來的18英寸)直接影響著單個晶圓上能生產(chǎn)的芯片數(shù)量,進而影響生產(chǎn)成本。
2. 摻雜(Doping):改變導電性的魔法
純凈的硅在室溫下導電性很差。為了使其具有半導體的特性,需要進行“摻雜”。摻雜是指在純凈的半導體材料中引入少量雜質(zhì)原子。這些雜質(zhì)原子會改變硅的晶體結(jié)構(gòu)和電子排布,從而顯著改變其導電性能。
N型半導體(N-type Semiconductor): 通過在硅中摻入五價元素(如磷P、砷As),這些雜質(zhì)原子會比硅原子多出一個價電子。這些多余的電子在晶體中可以自由移動,成為主要的電荷載流子,因此被稱為N型(Negative,負電荷)。
P型半導體(P-type Semiconductor): 通過在硅中摻入三價元素(如硼B(yǎng)、鎵Ga),這些雜質(zhì)原子會比硅原子少一個價電子,形成一個“空穴”(Hole)。這個空穴相當于一個正電荷,可以吸引附近的電子填補,從而使空穴移動,成為主要的電荷載流子,因此被稱為P型(Positive,正電荷)。
通過精確控制摻雜的種類和濃度,可以制造出不同導電特性的區(qū)域,為構(gòu)建晶體管等器件奠定基礎(chǔ)。
3. PN結(jié)(PN Junction):電流的單向閥門
PN結(jié)是半導體器件中最基本、最重要的結(jié)構(gòu)。當P型半導體與N型半導體緊密接觸時,就會形成一個PN結(jié)。在PN結(jié)處,由于載流子濃度的差異,電子和空穴會發(fā)生擴散和復合,形成一個耗盡層(Depletion Region),在此區(qū)域內(nèi)幾乎沒有自由載流子。
PN結(jié)具有獨特的單向?qū)щ娦裕?/span>
正向偏置(Forward Bias): 當外部電壓使P區(qū)接正極,N區(qū)接負極時,外部電場會削弱耗盡層的內(nèi)建電場,使多數(shù)載流子(電子從N區(qū),空穴從P區(qū))能夠跨越PN結(jié),形成較大的電流。
反向偏置(Reverse Bias): 當外部電壓使P區(qū)接負極,N區(qū)接正極時,外部電場會增強耗盡層的內(nèi)建電場,阻礙多數(shù)載流子跨越PN結(jié),只形成非常微弱的反向飽和電流。
PN結(jié)的這種單向?qū)щ娦允侵圃於O管(Diode)的基礎(chǔ),二極管在電路中常用于整流、限幅和開關(guān)等功能。
4. 晶體管(Transistor):芯片的核心開關(guān)
晶體管是半導體芯片中最基本的有源器件,也是集成電路的靈魂。它本質(zhì)上是一個微型的電子開關(guān),能夠控制電流的通斷,或者放大電信號?,F(xiàn)代芯片中使用的晶體管主要是場效應晶體管(Field-Effect Transistor, FET),尤其是金屬氧化物半導體場效應晶體管(Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor, MOSFET)。
MOSFET通常由三個端子構(gòu)成:
柵極(Gate): 用于控制電場,進而控制溝道(Source和Drain之間的導電區(qū)域)的導電性。
源極(Source): 電子(或空穴)進入溝道的端口。
漏極(Drain): 電子(或空穴)離開溝道的端口。
通過在柵極施加不同的電壓,可以控制源極和漏極之間的導電通路是導通(“開”)還是截止(“關(guān)”)。這種開關(guān)能力使得晶體管能夠用于構(gòu)建數(shù)字電路中的邏輯門(如AND、OR、NOT門),進而組合成復雜的計算單元,例如微處理器(CPU)和存儲器(Memory)。
5. 邏輯門與數(shù)字電路:0和1的世界
數(shù)字電路是建立在“0”和“1”這兩個二進制狀態(tài)之上的。晶體管的“開”和“關(guān)”狀態(tài)正好可以對應數(shù)字電路中的“1”和“0”。通過組合多個晶體管,可以構(gòu)建出各種邏輯門。
非門(NOT Gate): 輸入為1輸出為0,輸入為0輸出為1,實現(xiàn)邏輯反轉(zhuǎn)。
與門(AND Gate): 只有當所有輸入都為1時,輸出才為1。
或門(OR Gate): 只要任何一個輸入為1時,輸出就為1。
與非門(NAND Gate)、或非門(NOR Gate)、異或門(XOR Gate)等: 都是基本邏輯門的組合或變體。
這些邏輯門是構(gòu)建更復雜數(shù)字電路(如加法器、觸發(fā)器、寄存器、計數(shù)器等)的基本單元。數(shù)以億計的邏輯門被巧妙地連接在一起,形成了微處理器中復雜的運算邏輯單元(ALU)、控制器、寄存器等,使得芯片能夠執(zhí)行復雜的計算任務。
6. 集成度(Integration Level)與摩爾定律(Moore's Law)
集成度是指在單個芯片上集成的電子元件的數(shù)量。隨著半導體制造技術(shù)的不斷進步,芯片的集成度呈指數(shù)級增長。
摩爾定律是由英特爾聯(lián)合創(chuàng)始人戈登·摩爾在1965年提出的一個觀察和預測:當價格不變時,集成電路上可容納的晶體管數(shù)目,約每隔18-24個月便會增加一倍,性能也將提升一倍。雖然這只是一個經(jīng)驗法則,但它在過去幾十年中一直指導著半導體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。
摩爾定律的持續(xù)生效帶來了芯片性能的飛速提升、功耗的降低以及成本的下降,這為計算能力的普及和各種智能設(shè)備的出現(xiàn)奠定了基礎(chǔ)。然而,隨著晶體管尺寸逼近物理極限,摩爾定律的持續(xù)性正面臨嚴峻挑戰(zhàn)。
7. 封裝(Packaging):芯片的保護殼
裸露的芯片(通常稱為“裸片”或“Die”)非常脆弱,并且難以直接與外部電路連接。因此,在芯片制造完成后,需要進行封裝。封裝有以下幾個主要功能:
保護芯片: 防止物理損傷、濕氣和污染物。
電氣連接: 提供芯片與外部電路板之間的電氣連接接口,通常通過引腳(Pins)或焊球(Solder Balls)實現(xiàn)。
散熱: 幫助芯片在工作時散發(fā)產(chǎn)生的熱量,避免過熱損壞。
常見的封裝形式包括DIP(Dual In-line Package)、SOP(Small Outline Package)、QFP(Quad Flat Package)、BGA(Ball Grid Array)等。選擇何種封裝形式取決于芯片的復雜程度、引腳數(shù)量、散熱要求和應用場景。
三、半導體芯片的制造過程:從沙子到智能
半導體芯片的制造是一個極其復雜、精密且耗資巨大的過程,通常被稱為“芯片制造”(Chip Fabrication或“Fab”)。這個過程涉及到數(shù)百個步驟,需要在極其潔凈的環(huán)境(潔凈室)中進行,以避免任何微小的顆粒污染導致芯片失效。
1. 晶圓制造(Wafer Fabrication):
硅棒生長與切片: 高純度多晶硅被熔化并拉伸成圓柱形單晶硅錠,然后切割成薄片晶圓。
晶圓拋光: 晶圓表面經(jīng)過精細拋光,達到鏡面般的光滑度,以確保后續(xù)工藝的精確性。
2. 氧化(Oxidation):
在高溫下,晶圓表面形成一層二氧化硅(SiO2)薄膜。這層薄膜可以作為絕緣層、鈍化層或刻蝕掩膜。
3. 光刻(Photolithography):
這是芯片制造中最關(guān)鍵、最復雜的一步,決定了芯片上圖案的精細程度。
涂光刻膠: 晶圓表面均勻涂覆一層光敏材料,稱為光刻膠(Photoresist)。
曝光: 使用紫外光(或更短波長的光,如EUV)通過一個帶有電路圖案的掩模版(Mask或Reticle),將圖案曝光到光刻膠上。被曝光或未被曝光的光刻膠性質(zhì)會發(fā)生變化。
顯影: 用顯影液溶解掉被曝光或未被曝光的光刻膠,從而在晶圓表面留下與掩模版圖案一致的光刻膠圖案。
4. 刻蝕(Etching):
利用化學溶液(濕法刻蝕)或等離子體(干法刻蝕),去除未被光刻膠覆蓋的區(qū)域的材料(如二氧化硅、硅或金屬層),從而將光刻圖案轉(zhuǎn)移到晶圓下層的薄膜上。
5. 離子注入(Ion Implantation):
通過高能離子束將特定雜質(zhì)原子(如硼、磷)注入到晶圓的特定區(qū)域,形成P型或N型半導體區(qū)域,以構(gòu)建晶體管的源區(qū)、漏區(qū)和溝道。
6. 薄膜沉積(Thin Film Deposition):
在晶圓表面生長各種薄膜,如金屬層(用于導線連接)、絕緣層(用于隔離不同導線)。常用的方法包括化學氣相沉積(CVD)和物理氣相沉積(PVD)。
7. 化學機械拋光(Chemical Mechanical Planarization, CMP):
在多層金屬互連結(jié)構(gòu)中,為了確保每一層都是平坦的,需要使用化學機械拋光技術(shù),將表面多余的材料研磨掉,保持表面的平整度。
8. 金屬化(Metallization):
在芯片上沉積多層金屬導線(通常是銅或鋁),通過刻蝕和填充工藝形成互連線,將各個晶體管和元件連接起來,構(gòu)成完整的電路?,F(xiàn)代芯片通常有多達十幾層金屬互連層。
以上步驟會根據(jù)芯片設(shè)計的復雜性重復多次(例如,一層晶體管、多層互連線),每重復一次就形成一層新的結(jié)構(gòu)。整個過程就像建造一座擁有無數(shù)房間和走廊的微型城市。
9. 晶圓測試(Wafer Probing):
在晶圓制造完成后,通過探針臺對晶圓上的每個芯片進行電氣測試,識別出功能正常的芯片(良品)和有缺陷的芯片(壞品)。
10. 晶圓切割(Dicing):* 將測試合格的晶圓切割成獨立的芯片裸片。
11. 封裝(Packaging):* 將切割好的芯片裸片固定在封裝基板上,通過金線鍵合或倒裝焊等技術(shù)將芯片的焊盤與封裝引腳連接起來,并用塑料或陶瓷等材料進行密封保護。
12. 最終測試(Final Test):* 封裝好的芯片會再次進行功能、性能和可靠性測試,確保其滿足設(shè)計規(guī)格。
四、半導體芯片的分類
半導體芯片可以根據(jù)其功能、應用領(lǐng)域和集成度等多種方式進行分類:
1. 按功能分類:
存儲芯片(Memory ICs):
RAM(Random Access Memory): 隨機存取存儲器,用于臨時存儲數(shù)據(jù),讀寫速度快,但斷電丟失數(shù)據(jù)。包括DRAM(Dynamic RAM,動態(tài)隨機存取存儲器,常用于電腦內(nèi)存)和SRAM(Static RAM,靜態(tài)隨機存取存儲器,常用于CPU緩存)。
ROM(Read Only Memory): 只讀存儲器,用于存儲固件和啟動程序,斷電不丟失數(shù)據(jù)。包括PROM、EPROM、EEPROM和Flash Memory(閃存,廣泛用于固態(tài)硬盤、USB驅(qū)動器和手機存儲)。
邏輯芯片(Logic ICs):
微處理器(Microprocessor Unit, MPU): 芯片的大腦,負責執(zhí)行指令、進行算術(shù)和邏輯運算,如CPU(中央處理器)、GPU(圖形處理器)。
微控制器(Microcontroller Unit, MCU): 集成了CPU、內(nèi)存、外設(shè)接口等在一個芯片上,常用于嵌入式系統(tǒng)和物聯(lián)網(wǎng)設(shè)備。
數(shù)字信號處理器(Digital Signal Processor, DSP): 專門用于數(shù)字信號處理,如音頻、視頻編解碼。
現(xiàn)場可編程門陣列(Field-Programmable Gate Array, FPGA): 一種可編程邏輯器件,用戶可以根據(jù)需求配置其內(nèi)部邏輯功能。
專用集成電路(Application-Specific Integrated Circuit, ASIC): 為特定應用設(shè)計和優(yōu)化的芯片,性能高、功耗低,但設(shè)計成本高。
模擬芯片(Analog ICs):
處理連續(xù)變化的模擬信號,如傳感器信號、音頻信號等。包括運算放大器(Op-Amp)、模數(shù)轉(zhuǎn)換器(ADC)、數(shù)模轉(zhuǎn)換器(DAC)、電源管理芯片(PMIC)等。
混合信號芯片(Mixed-Signal ICs):
結(jié)合了模擬和數(shù)字電路功能,例如通信芯片、射頻芯片等。
2. 按應用領(lǐng)域分類:
消費電子芯片: 手機、電視、平板電腦、游戲機等。
汽車電子芯片: 自動駕駛、車載娛樂、動力控制等。
工業(yè)控制芯片: 自動化設(shè)備、機器人、智能制造等。
通信芯片: 5G基站、光纖通信、網(wǎng)絡設(shè)備等。
醫(yī)療健康芯片: 醫(yī)療影像、可穿戴醫(yī)療設(shè)備等。
高性能計算芯片: 超級計算機、數(shù)據(jù)中心服務器等。
3. 按集成度分類:
SSI(Small Scale Integration): 小規(guī)模集成,10個以下邏輯門。
MSI(Medium Scale Integration): 中規(guī)模集成,10-100個邏輯門。
LSI(Large Scale Integration): 大規(guī)模集成,100-1000個邏輯門。
VLSI(Very Large Scale Integration): 超大規(guī)模集成,1000個以上邏輯門,現(xiàn)代CPU、GPU通常屬于此類。
ULSI(Ultra Large Scale Integration): 特大規(guī)模集成,集成度更高,通常指幾百萬到幾十億個晶體管。
五、半導體芯片產(chǎn)業(yè)的生態(tài)系統(tǒng)
半導體產(chǎn)業(yè)是一個高度全球化、分工精細的復雜生態(tài)系統(tǒng),通常可以分為以下幾個主要環(huán)節(jié):
1. IC設(shè)計(IC Design):
負責芯片的功能定義、架構(gòu)設(shè)計、電路設(shè)計、版圖設(shè)計和驗證。主要參與者包括高通(Qualcomm)、英特爾(Intel)、英偉達(NVIDIA)、AMD、聯(lián)發(fā)科(MediaTek)等。
2. 晶圓制造(Foundry):
根據(jù)IC設(shè)計公司提供的設(shè)計圖紙,利用先進的制造工藝在晶圓上生產(chǎn)芯片。主要參與者包括臺積電(TSMC)、三星(Samsung Foundry)、格芯(GlobalFoundries)、聯(lián)華電子(UMC)等。
3. 封裝測試(OSAT - Outsourced Semiconductor Assembly and Test):
對晶圓制造完成的芯片進行切割、封裝和最終測試。主要參與者包括日月光(ASE)、安靠(Amkor)、長電科技(JCET)等。
4. 材料和設(shè)備供應商:
為晶圓制造和封裝測試提供高純度半導體材料(如硅片、光刻膠、電子氣體)和先進的制造設(shè)備(如光刻機、刻蝕機、薄膜沉積設(shè)備)。主要參與者包括應用材料(Applied Materials)、阿斯麥(ASML)、泛林集團(Lam Research)、東京電子(Tokyo Electron)等。
5. IP(Intellectual Property)供應商:
提供可重復使用的電路模塊、設(shè)計工具和技術(shù)授權(quán),加速芯片設(shè)計流程。主要參與者包括ARM、Synopsys、Cadence等。
這種專業(yè)化分工模式(Fabless-Foundry模式)使得IC設(shè)計公司可以專注于設(shè)計創(chuàng)新,而無需投入巨額資金建設(shè)和維護晶圓廠,極大地促進了半導體產(chǎn)業(yè)的繁榮。
六、半導體芯片的關(guān)鍵技術(shù)指標
衡量半導體芯片性能和先進性的關(guān)鍵技術(shù)指標有很多,其中最重要的包括:
1. 制程工藝(Process Node / Technology Node):
通常以納米(nm)為單位表示,如7nm、5nm、3nm。這個數(shù)字最初代表晶體管的柵極長度,現(xiàn)在更多是市場營銷術(shù)語,代表著單位面積內(nèi)晶體管密度、性能和功耗的綜合水平。制程數(shù)字越小,意味著晶體管尺寸越小,單個芯片上能集成的晶體管數(shù)量越多,性能越強,功耗越低。
2. 晶體管密度(Transistor Density):
指單位面積(如平方毫米)內(nèi)集成的晶體管數(shù)量。這是反映芯片集成度最直觀的指標。
3. 時鐘頻率(Clock Frequency):
衡量芯片執(zhí)行操作的速度,單位是赫茲(Hz),如GHz。時鐘頻率越高,芯片在單位時間內(nèi)執(zhí)行的指令越多。
4. 功耗(Power Consumption):
芯片在工作時消耗的電能,單位是瓦特(W)。低功耗對于移動設(shè)備和數(shù)據(jù)中心至關(guān)重要。
5. 性能(Performance):
通常用每秒浮點運算次數(shù)(FLOPS)或每秒指令數(shù)(IPS)等指標來衡量。對于CPU,通常關(guān)注單核和多核性能;對于GPU,則關(guān)注浮點運算能力和渲染能力。
6. 面積(Die Size):
芯片裸片的物理尺寸。面積越大,晶圓上能生產(chǎn)的芯片數(shù)量越少,成本越高。
七、半導體芯片的未來發(fā)展趨勢與挑戰(zhàn)
盡管半導體產(chǎn)業(yè)取得了舉世矚目的成就,但未來發(fā)展仍面臨諸多機遇和挑戰(zhàn):
1. 摩爾定律的終結(jié)與后摩爾定律時代:
隨著晶體管尺寸逼近物理極限(如量子效應、漏電),傳統(tǒng)硅基CMOS(Complementary Metal-Oxide-Semiconductor)技術(shù)的微縮面臨巨大挑戰(zhàn)。
應對策略:
新材料和新結(jié)構(gòu): 探索二維材料(如石墨烯)、碳納米管、III-V族化合物半導體等,以及GAAFET(Gate-All-Around FET)、Forksheet等新型晶體管結(jié)構(gòu)。
先進封裝技術(shù): 通過2.5D/3D封裝(如chiplet小芯片技術(shù)),將多個不同功能的芯片裸片封裝在一起,實現(xiàn)異構(gòu)集成,從而繞過單個芯片的尺寸限制,提高整體性能。
超越CMOS: 探索量子計算、光子計算、神經(jīng)形態(tài)計算等新型計算范式。
2. 人工智能與數(shù)據(jù)爆炸:
人工智能(AI)的爆發(fā)式發(fā)展對芯片的計算能力、存儲帶寬和能效提出了更高要求。
AI芯片: 專門為AI計算優(yōu)化的芯片,如GPU、ASIC(TPU、NPU)、FPGA等,將是未來的重要增長點。
存內(nèi)計算(In-memory Computing): 將計算邏輯集成到存儲單元中,減少數(shù)據(jù)在處理器和存儲器之間傳輸?shù)拈_銷,提高能效。
3. 萬物互聯(lián)(IoT)與邊緣計算:
海量的物聯(lián)網(wǎng)設(shè)備需要低功耗、低成本、高可靠的芯片。邊緣計算則要求在靠近數(shù)據(jù)源的地方進行實時處理,減少對云端的依賴。
低功耗芯片設(shè)計: 針對物聯(lián)網(wǎng)設(shè)備的特點,優(yōu)化芯片架構(gòu)和工藝,實現(xiàn)超低功耗運行。
安全芯片: 確保物聯(lián)網(wǎng)設(shè)備和數(shù)據(jù)的安全性。
4. 供應鏈安全與地緣政治:
全球半導體供應鏈高度集中且復雜,任何環(huán)節(jié)的波動都可能對整個產(chǎn)業(yè)產(chǎn)生巨大影響。地緣政治因素也使得各國更加重視半導體產(chǎn)業(yè)的自主可控。
5. 可持續(xù)發(fā)展:
芯片制造是高能耗、高污染的產(chǎn)業(yè)。未來需要更加環(huán)保的制造工藝,以及更低功耗的芯片設(shè)計,以應對氣候變化和資源限制。
結(jié)論
半導體芯片是現(xiàn)代文明的基石,其發(fā)展歷程是人類智慧和技術(shù)進步的縮影。從最初簡單的晶體管到如今集成了數(shù)百億晶體管的復雜芯片,半導體技術(shù)以前所未有的速度推動著信息社會的進步。盡管面臨物理極限和技術(shù)瓶頸的挑戰(zhàn),但創(chuàng)新從未止步。新材料、新結(jié)構(gòu)、新計算范式以及先進封裝技術(shù)的不斷涌現(xiàn),預示著半導體芯片的未來仍將充滿無限可能,繼續(xù)驅(qū)動著人類社會邁向一個更加智能、互聯(lián)和高效的未來。理解半導體芯片,就是掌握理解現(xiàn)代科技脈搏的鑰匙,也是展望未來數(shù)字世界的窗口。
責任編輯:David
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