原標題：思銳智能攜旗下Beneq品牌亮相CIOE2021，探索從微觀到宏觀層面的ALD光學應用創(chuàng)新

思銳智能攜旗下Beneq品牌亮相CIOE2021（即第23屆中國國際光電博覽會），并在此平臺上深入探索了從微觀到宏觀層面的原子層沉積（ALD）光學應用創(chuàng)新。以下是對該事件的詳細闡述：

一、事件背景

• 參展方：青島四方思銳智能技術有限公司（簡稱思銳智能），攜其全資收購的芬蘭Beneq品牌共同參展。

• 展會名稱：第23屆中國國際光電博覽會（CIOE2021）。

• 展會時間：具體年份為2021年（具體日期未提及，但根據(jù)標題可推斷）。

二、參展亮點

1. ALD光學應用創(chuàng)新：

• 思銳智能在展會上分享了ALD設備的主流產(chǎn)品以及在光學領域的眾多創(chuàng)新解決方案。ALD技術以其原子級精度的特性，在納米結(jié)構(gòu)的微觀層面和任意形態(tài)光學器件的宏觀層面均展現(xiàn)出卓越的應用潛力。

• ALD技術能夠調(diào)整光學材料的特性，滿足高精度、高保形性、高致密性和高均勻性的要求，特別是在三維結(jié)構(gòu)部件產(chǎn)品上沉積高保形、高致密、高均勻性的光學薄膜方面具有獨特優(yōu)勢。

2. 產(chǎn)品展示：

• 思銳智能展示了包括P400A、P800、P1500和C2R在內(nèi)的多款ALD設備。這些設備克服了傳統(tǒng)ALD設備沉積速率慢、不兼容大尺寸產(chǎn)品、難以大規(guī)模生產(chǎn)的局限，滿足了現(xiàn)代光學規(guī)?；?、高要求的鍍膜產(chǎn)品的生產(chǎn)需要。

• 其中，P系列設備支持定制反應腔的配置選項，適用于各種基底，且反應腔易于更換，減少了因維護造成的停機時間。C2R系列則是將空間ALD技術與等離子技術結(jié)合的創(chuàng)新產(chǎn)品，實現(xiàn)了超高速的鍍膜能力。

1. 技術合作與生態(tài)拓展：

• 思銳智能與浙江大學光學與光電子薄膜研究所簽訂了戰(zhàn)略合作協(xié)議，共建聯(lián)合實驗室，用于技術開發(fā)和應用創(chuàng)新。

• 公司還積極拓展生態(tài)合作版圖，與國內(nèi)外多家知名企業(yè)達成合作，共同推動ALD技術在光學及其他領域的應用。

三、市場反響與應用前景

• 思銳智能的ALD設備和技術在展會上引起了廣泛關注，其出色的膜層厚度均勻性、保形性和高性價比等特點贏得了行業(yè)人士的認可。

• 展望未來，隨著光電系統(tǒng)微縮化、基底材料多元化以及各類行業(yè)應用的創(chuàng)新迭代，ALD技術將在光學鍍膜領域發(fā)揮更加重要的作用。思銳智能將繼續(xù)以先進的ALD技術為客戶提供一站式解決方案，滿足從研發(fā)、中試線到工業(yè)化量產(chǎn)的全方位鍍膜需求。

綜上所述，思銳智能攜Beneq品牌亮相CIOE2021不僅展示了其在ALD光學應用領域的創(chuàng)新成果和技術實力，還進一步拓展了市場合作與生態(tài)版圖，為未來的光學鍍膜產(chǎn)業(yè)發(fā)展奠定了堅實基礎。