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Nexperia推出四款全新兼具高信號(hào)完整性的TrEOS ESD保護(hù)器件

來源: elecfans
2020-09-16
類別:新品快報(bào)
eye 56
文章創(chuàng)建人 拍明

原標(biāo)題:Nexperia推出四款全新兼具高信號(hào)完整性的TrEOS ESD保護(hù)器件

一、產(chǎn)品背景與市場(chǎng)需求

  1. 高速接口的ESD防護(hù)挑戰(zhàn)

    • 技術(shù)驅(qū)動(dòng):隨著5G、汽車電子(如車載以太網(wǎng)、USB4)、消費(fèi)電子(如HDMI 2.1、DisplayPort 2.0)的普及,數(shù)據(jù)傳輸速率從Gbps級(jí)邁向10Gbps+(如PCIe 6.0達(dá)64Gbps),對(duì)信號(hào)完整性(SI)要求極高。

    • ESD防護(hù)的矛盾:傳統(tǒng)ESD保護(hù)器件(如TVS二極管)在提供靜電防護(hù)的同時(shí),可能引入寄生電容(>1pF)和電感,導(dǎo)致信號(hào)衰減、眼圖畸變,甚至誤碼率(BER)上升。

  2. Nexperia的解決方案

    • TrEOS技術(shù)平臺(tái):通過超低電容(<0.3pF)、超低鉗位電壓(<8V@8/20μs浪涌)和快速響應(yīng)時(shí)間(<1ns),平衡ESD防護(hù)與信號(hào)完整性需求。

    • 新器件發(fā)布:四款TrEOS器件(如PESD3V3S5ULH、PESD5V0S5ULH等)覆蓋3.3V/5V工作電壓,適配USB 3.2、HDMI 2.1、MIPI D-PHY等高速接口。


二、核心技術(shù)與性能突破

  1. 超低寄生電容設(shè)計(jì)

    • 在10GHz頻率下,插入損耗(Insertion Loss)降低至-0.5dB(傳統(tǒng)器件約-1.2dB),眼圖張開度(Eye Opening)提升30%。

    • 采用垂直集成工藝(Vertical Integration),將ESD保護(hù)單元與信號(hào)路徑垂直堆疊,減少水平走線帶來的寄生電容。

    • 優(yōu)化摻雜濃度和PN結(jié)結(jié)構(gòu),降低結(jié)電容至0.15pF~0.25pF(典型值),較傳統(tǒng)器件降低60%以上。

    • 技術(shù)原理

    • 信號(hào)完整性提升

  2. 超低鉗位電壓與快速響應(yīng)

    • 響應(yīng)時(shí)間<1ns,遠(yuǎn)快于IEC 61000-4-2標(biāo)準(zhǔn)要求的10ns,確保在ESD事件發(fā)生瞬間啟動(dòng)保護(hù)。

    • 在8/20μs浪涌電流下,鉗位電壓<8V(如PESD3V3S5ULH在30A浪涌時(shí)Vclamp=7.5V),保護(hù)后端芯片(如處理器、FPGA)免受高電壓沖擊。

    • 鉗位電壓(Vclamp)

    • 響應(yīng)時(shí)間(tr)

  3. 封裝與布局優(yōu)化

    • 超小封裝:采用DFN1006BD-2L(1.0mm×0.6mm×0.37mm)封裝,較傳統(tǒng)SOT23封裝面積縮小70%,適合高密度PCB設(shè)計(jì)。

    • 低電感布局:內(nèi)部引腳間距優(yōu)化至0.3mm,降低寄生電感至<0.5nH,減少高頻信號(hào)反射。


三、典型應(yīng)用場(chǎng)景與案例

  1. 消費(fèi)電子:USB 3.2 Gen 2×2接口

    • 使用Nexperia的PESD5V0S5ULH(0.25pF電容)替代傳統(tǒng)TVS,在20Gbps下插入損耗僅-0.4dB,誤碼率(BER)<10^-12。

    • 對(duì)比測(cè)試


      器件電容(pF)20Gbps插入損耗(dB)BER
      傳統(tǒng)TVS二極管0.8-1.110^-9
      PESD5V0S5ULH0.25-0.410^-12


    • 需求:USB 3.2 Gen 2×2支持20Gbps傳輸速率,對(duì)ESD防護(hù)器件的電容要求<0.3pF。

    • 方案

  2. 汽車電子:車載以太網(wǎng)1000BASE-T1

    • 采用PESD3V3S5ULH(AEC-Q101認(rèn)證),在125℃高溫下電容漂移<5%,確保信號(hào)完整性不受溫度影響。

    • 可靠性測(cè)試

    • 通過1000次±8kV接觸放電測(cè)試,器件無失效。

    • 在1000小時(shí)高溫高濕(85℃/85% RH)后,漏電流<1nA。

    • 需求:車載以太網(wǎng)需在-40℃~+125℃環(huán)境下工作,且ESD防護(hù)需滿足ISO 10605標(biāo)準(zhǔn)(±8kV接觸放電)。

    • 方案

  3. 工業(yè)控制:MIPI D-PHY攝像頭接口

    • 使用TrEOS器件的低動(dòng)態(tài)電阻特性(Rdyn=0.8Ω),在4.5Gbps下信號(hào)衰減<0.2dB,滿足工業(yè)攝像頭的高清傳輸需求。

    • 需求:MIPI D-PHY支持4.5Gbps/lane速率,需ESD防護(hù)器件的動(dòng)態(tài)電阻(Rdyn)<1Ω。

    • 方案


四、技術(shù)優(yōu)勢(shì)與市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)力

  1. 對(duì)比傳統(tǒng)ESD防護(hù)器件


    指標(biāo)傳統(tǒng)TVS二極管Nexperia TrEOS器件
    電容(pF)0.8~1.50.15~0.25
    鉗位電壓(8/20μs, 30A)10~15V7.5~8V
    響應(yīng)時(shí)間(ns)5~10<1
    封裝面積(mm2)2.5~3.00.6


  2. 與競(jìng)品的差異化競(jìng)爭(zhēng)

    • 電容更低:TrEOS器件電容<0.3pF,競(jìng)品通常>0.5pF。

    • 高溫性能更優(yōu):AEC-Q101認(rèn)證+125℃電容漂移<5%,適合汽車電子。

    • 封裝更小:DFN1006BD-2L封裝體積僅0.37mm3,競(jìng)品SOT23封裝體積約2.5mm3。

    • Nexperia vs 競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手(如ON Semi、Littelfuse)


五、市場(chǎng)前景與行業(yè)影響

  1. 市場(chǎng)規(guī)模與增長(zhǎng)

    • 高速接口ESD防護(hù)市場(chǎng):據(jù)Yole Développement預(yù)測(cè),2025年市場(chǎng)規(guī)模將達(dá)12億美元,年復(fù)合增長(zhǎng)率(CAGR)超15%,驅(qū)動(dòng)因素包括5G終端、汽車電子、AR/VR設(shè)備普及。

  2. 對(duì)行業(yè)的影響

    • 推動(dòng)高速接口標(biāo)準(zhǔn)化:TrEOS器件的低電容特性可能成為下一代高速接口標(biāo)準(zhǔn)(如USB4、HDMI 2.1)的ESD防護(hù)推薦方案。

    • 加速產(chǎn)品迭代:幫助客戶縮短設(shè)計(jì)周期(如從6個(gè)月縮短至3個(gè)月),降低研發(fā)成本。

  3. 未來技術(shù)方向

    • 集成化趨勢(shì):將ESD防護(hù)與EMI濾波、共模扼流圈集成,進(jìn)一步減少PCB面積。

    • AI驅(qū)動(dòng)優(yōu)化:通過機(jī)器學(xué)習(xí)模擬ESD事件,優(yōu)化器件參數(shù)(如電容、鉗位電壓)。

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六、總結(jié)與直接結(jié)論

  1. 產(chǎn)品價(jià)值

    • Nexperia的四款TrEOS ESD保護(hù)器件通過超低電容、超低鉗位電壓和快速響應(yīng),解決了高速接口設(shè)計(jì)中ESD防護(hù)與信號(hào)完整性的矛盾,為5G、汽車電子、工業(yè)控制等領(lǐng)域提供高可靠性解決方案。

  2. 對(duì)客戶的直接收益

    • PCB面積縮小30%~50%,設(shè)計(jì)周期縮短50%。

    • 在10Gbps+速率下實(shí)現(xiàn)信號(hào)衰減<0.5dB,誤碼率<10^-12。

    • 技術(shù)層面

    • 商業(yè)層面

  3. 行業(yè)影響

    • 推動(dòng)ESD防護(hù)器件從“被動(dòng)保護(hù)”向“主動(dòng)優(yōu)化信號(hào)完整性”演進(jìn),加速高速接口技術(shù)的普及。

最終結(jié)論:Nexperia的TrEOS ESD保護(hù)器件是高速接口設(shè)計(jì)的革命性突破,其超低電容和快速響應(yīng)特性將重新定義ESD防護(hù)標(biāo)準(zhǔn),助力客戶在5G、汽車電子等高競(jìng)爭(zhēng)領(lǐng)域搶占技術(shù)制高點(diǎn)。


責(zé)任編輯:David

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