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高耐久低成本 NRAM 原理大揭秘

來源: 中電網(wǎng)
2020-09-18
類別:技術(shù)信息
eye 50
文章創(chuàng)建人 拍明

原標(biāo)題:高耐久低成本 NRAM 原理大揭秘

NRAM(Nano-RAM)是一種基于碳納米管(CNT)技術(shù)的非易失性存儲(chǔ)器,具有高耐久性、低功耗、高速讀寫和低成本潛力,被視為下一代存儲(chǔ)技術(shù)的有力競(jìng)爭(zhēng)者。以下從原理、技術(shù)優(yōu)勢(shì)、挑戰(zhàn)及商業(yè)化前景等方面深入解析。


一、NRAM的核心原理

NRAM利用碳納米管的機(jī)械開關(guān)特性量子隧穿效應(yīng)實(shí)現(xiàn)數(shù)據(jù)存儲(chǔ),其基本結(jié)構(gòu)和工作原理如下:

1. 存儲(chǔ)單元結(jié)構(gòu)

  • 碳納米管交叉陣列
    NRAM的存儲(chǔ)單元由垂直交叉的碳納米管(CNT)組成,類似于交叉點(diǎn)存儲(chǔ)器(Crossbar Array)。每個(gè)交叉點(diǎn)形成一個(gè)存儲(chǔ)單元,通過碳納米管的接觸或分離狀態(tài)存儲(chǔ)數(shù)據(jù)。

  • 雙穩(wěn)態(tài)開關(guān)機(jī)制
    每個(gè)存儲(chǔ)單元包含兩根碳納米管(一根固定,一根可移動(dòng)),通過范德華力(分子間作用力)控制接觸狀態(tài):

    • “1”狀態(tài):可移動(dòng)CNT與固定CNT接觸,形成低阻態(tài)(導(dǎo)通)。

    • “0”狀態(tài):可移動(dòng)CNT與固定CNT分離,形成高阻態(tài)(斷開)。

2. 讀寫操作機(jī)制

  • 寫入操作
    通過施加電壓脈沖(通常為幾伏特)驅(qū)動(dòng)可移動(dòng)CNT,使其與固定CNT接觸或分離,實(shí)現(xiàn)狀態(tài)切換。

  • 讀取操作
    施加低電壓檢測(cè)電阻狀態(tài),低阻態(tài)為“1”,高阻態(tài)為“0”。

3. 非易失性原理

  • 碳納米管的接觸狀態(tài)在斷電后仍能保持,得益于范德華力的穩(wěn)定性,確保數(shù)據(jù)長(zhǎng)期存儲(chǔ)。


二、NRAM的技術(shù)優(yōu)勢(shì)


特性優(yōu)勢(shì)對(duì)比傳統(tǒng)存儲(chǔ)器
耐久性理論耐久性>1012次擦寫循環(huán)(遠(yuǎn)超F(xiàn)lash的10?次)。Flash:10?次;DRAM:無限制但需刷新。
讀寫速度讀寫延遲<10ns(接近DRAM),速度比Flash快1000倍。Flash:100μs(寫入);DRAM:10ns。
功耗靜態(tài)功耗幾乎為零,動(dòng)態(tài)功耗低于Flash和DRAM。Flash:高寫入功耗;DRAM:需持續(xù)刷新功耗。
成本潛力制造工藝兼容CMOS,材料成本低(碳納米管價(jià)格持續(xù)下降)。Flash:需復(fù)雜浮柵結(jié)構(gòu);DRAM:需高精度電容。
工作溫度支持-55°C至+125°C,適用于極端環(huán)境。Flash:高溫下性能下降;DRAM:低溫需加熱。
數(shù)據(jù)保持非易失性,數(shù)據(jù)保留時(shí)間>10年。DRAM:斷電后數(shù)據(jù)丟失;SRAM:需持續(xù)供電。

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三、NRAM的耐久性與低成本實(shí)現(xiàn)機(jī)制

1. 高耐久性來源

  • 機(jī)械開關(guān)特性
    碳納米管的接觸與分離基于物理位移,無化學(xué)腐蝕或電荷陷阱問題,避免了Flash的氧化層磨損和DRAM的電容泄漏。

  • 無電荷存儲(chǔ)
    與傳統(tǒng)Flash依賴電荷存儲(chǔ)不同,NRAM不依賴電子隧穿或熱載流子注入,從根本上消除了電荷泄漏和氧化層退化問題。

2. 低成本實(shí)現(xiàn)路徑

  • CMOS兼容工藝
    NRAM的制造工藝與現(xiàn)有CMOS工藝兼容,無需額外昂貴設(shè)備(如EUV光刻機(jī)),可利用現(xiàn)有晶圓廠生產(chǎn)。

  • 材料成本低
    碳納米管的大規(guī)模合成技術(shù)成熟,成本已降至每克數(shù)百美元,未來有望進(jìn)一步降低。

  • 簡(jiǎn)化結(jié)構(gòu)
    存儲(chǔ)單元僅需兩根碳納米管,結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,良率提升空間大。


四、NRAM的技術(shù)挑戰(zhàn)與解決方案

1. 挑戰(zhàn)

  • 碳納米管一致性
    合成過程中可能產(chǎn)生金屬性CNT(導(dǎo)電)和半導(dǎo)體性CNT(絕緣),需精確控制比例以避免短路。

  • 制造良率
    碳納米管的排列和定位精度要求高,大規(guī)模生產(chǎn)中可能存在對(duì)齊偏差。

  • 可靠性驗(yàn)證
    長(zhǎng)期使用中,范德華力可能受溫度、濕度影響,需驗(yàn)證環(huán)境穩(wěn)定性。

2. 解決方案

  • CNT純化技術(shù)
    通過化學(xué)方法(如選擇性氧化)去除金屬性CNT,提高半導(dǎo)體性CNT純度。

  • 自組裝工藝
    利用CNT的自組裝特性(如流體動(dòng)力學(xué)排列),降低制造復(fù)雜度。

  • 封裝與測(cè)試
    采用氣密性封裝(如陶瓷封裝)隔離環(huán)境影響,并通過加速老化測(cè)試驗(yàn)證可靠性。


五、NRAM的商業(yè)化進(jìn)展

1. 主要廠商

  • Nantero
    全球領(lǐng)先的NRAM技術(shù)開發(fā)商,已與富士通、聯(lián)電等合作,推出28nm工藝NRAM芯片。

  • 三星、SK海力士
    投入研發(fā)資源,探索NRAM在存儲(chǔ)卡、嵌入式存儲(chǔ)等領(lǐng)域的應(yīng)用。

2. 應(yīng)用場(chǎng)景

  • 企業(yè)級(jí)存儲(chǔ)
    替代SSD中的NAND Flash,提供更高耐久性和更低延遲。

  • 工業(yè)控制
    適用于高溫、高輻射等極端環(huán)境。

  • 物聯(lián)網(wǎng)設(shè)備
    低功耗、非易失性特性適合電池供電設(shè)備。

3. 市場(chǎng)預(yù)測(cè)

  • 根據(jù)Yole Développement預(yù)測(cè),NRAM市場(chǎng)規(guī)模將在2030年突破50億美元,年復(fù)合增長(zhǎng)率超40%。


六、NRAM與其他新型存儲(chǔ)技術(shù)的對(duì)比


技術(shù)耐久性速度非易失性成本潛力典型應(yīng)用
NRAM1012次10ns企業(yè)存儲(chǔ)、工業(yè)控制
ReRAM10?次50ns嵌入式存儲(chǔ)、AI加速器
MRAM101?次10ns中高汽車電子、緩存
PCM10?次100ns移動(dòng)存儲(chǔ)、數(shù)據(jù)中心
3D XPoint10?次1μs高性能計(jì)算、企業(yè)存儲(chǔ)



七、總結(jié)與展望

NRAM憑借高耐久性、低功耗、高速讀寫和低成本潛力,有望成為下一代通用存儲(chǔ)器。其核心優(yōu)勢(shì)在于:

  1. 機(jī)械開關(guān)機(jī)制:消除電荷存儲(chǔ)的退化問題,實(shí)現(xiàn)超高耐久性。

  2. CMOS兼容工藝:降低制造成本,加速商業(yè)化進(jìn)程。

  3. 環(huán)境適應(yīng)性:支持極端溫度,適用于工業(yè)和汽車領(lǐng)域。

未來挑戰(zhàn)

  • 提升制造良率,解決CNT一致性難題。

  • 擴(kuò)大產(chǎn)能,降低材料成本。

潛在突破

  • 與3D堆疊技術(shù)結(jié)合,實(shí)現(xiàn)高密度存儲(chǔ)。

  • 替代DRAM和NAND Flash,推動(dòng)存儲(chǔ)架構(gòu)革新。

NRAM的商業(yè)化落地將重塑存儲(chǔ)市場(chǎng)格局,為數(shù)據(jù)中心、邊緣計(jì)算和物聯(lián)網(wǎng)設(shè)備提供更高效、更可靠的存儲(chǔ)解決方案。


責(zé)任編輯:David

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標(biāo)簽: NRAM

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