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意法半導體“單片多硅技術”歷史成就榮獲著名的IEEE里程碑獎

來源: 中電網
2021-05-21
類別:業(yè)界動態(tài)
eye 13
文章創(chuàng)建人 拍明

原標題:意法半導體“單片多硅技術”歷史成就榮獲著名的IEEE里程碑獎

意法半導體的“單片多硅技術”確實榮獲了著名的IEEE里程碑獎,這一成就標志著該公司在超級集成硅柵半導體工藝技術方面的開創(chuàng)性貢獻得到了廣泛認可。以下是對此獎項及其背后技術的詳細解析:

一、IEEE里程碑獎簡介

IEEE里程碑獎是電氣與電子工程師協會(IEEE)設立的一項榮譽,旨在表彰在獨特產品、服務、有影響力的論文和專利中造福人類的技術創(chuàng)新和卓越成就。每一個里程碑獎都代表了一項至少是25年前在IEEE代表的技術領域產生的至少具有地區(qū)影響力的重要技術成就。目前,IEEE在全球范圍內已經批準并頒發(fā)了大約220塊IEEE里程碑牌匾。

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二、意法半導體“單片多硅技術”獲獎詳情

  1. 獲獎時間:2021年5月18日,IEEE正式授予意法半導體IEEE里程碑獎,以表彰其在超級集成硅柵半導體工藝技術方面的開創(chuàng)性研究成果。

  2. 技術背景:在上個世紀八十年代初期,意法半導體(當時稱為SGS Microelettronica)的工程師開始尋找可靠的方法解決各種電子應用問題,并率先在一顆單芯片上集成異質晶體管和異質二極管。他們著眼于多個細分市場的客戶需求,著力于在數字邏輯的控制下提供數百瓦的電力,而且控制邏輯技術遵循摩爾定律。目標器件還將支持精確的模擬功能,并最大程度地降低功耗,無需使用散熱器。這些研發(fā)活動最終產生了一種新的集成硅柵技術,即BCD(Bipolar-CMOS-DMOS)技術。

  3. 技術特點:BCD技術利用復雜的互連方法在單個芯片上集成二極管、雙極線性晶體管、復雜CMOS邏輯和多個DMOS功率晶體管。這種技術結合了雙極工藝的高精度模擬晶體管、CMOS工藝的高性能數字開關晶體管和高功率DMOS晶體管的優(yōu)勢,非常適合復雜的、有大功率需求的應用。

  4. 應用成果:從推出BCD工藝至今,意法半導體已經售出400多億顆硅柵多功率BCD器件/芯片,廣泛應用于汽車子系統、智能手機、家用電器、音頻放大器、硬盤、電源、打印機、微型投影儀、照明、醫(yī)療設備、電動機、調制解調器、顯示器等終端應用。BCD技術已經賦能這些應用取得了顛覆性發(fā)展。

三、獲獎意義

意法半導體的BCD技術榮獲IEEE里程碑獎,意味著該公司的這一技術成就將被寫進推進人類發(fā)展的科技史冊。這一獎項不僅是對意法半導體在超級集成硅柵半導體工藝技術方面開創(chuàng)性貢獻的認可,也是對其在推動電子行業(yè)進步和滿足市場需求方面所做努力的肯定。

綜上所述,意法半導體的“單片多硅技術”憑借其開創(chuàng)性和卓越的技術成就,榮獲了IEEE里程碑獎。這一獎項不僅彰顯了意法半導體在半導體技術領域的領先地位,也為其未來的發(fā)展奠定了堅實的基礎。


責任編輯:David

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