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臺(tái)積電先進(jìn)工藝遇難題,蘋果明年 iPhone 新機(jī)恐難采用 3nm 芯片

來(lái)源: 中電網(wǎng)
2021-08-31
類別:業(yè)界動(dòng)態(tài)
eye 15
文章創(chuàng)建人 拍明

原標(biāo)題:臺(tái)積電先進(jìn)工藝遇難題,蘋果明年 iPhone 新機(jī)恐難采用 3nm 芯片

臺(tái)積電在先進(jìn)工藝的研發(fā)上確實(shí)面臨了一些難題,尤其是在3nm工藝上。這些難題對(duì)蘋果的iPhone新機(jī)采用3nm芯片產(chǎn)生了潛在的影響。以下是對(duì)這一問(wèn)題的詳細(xì)分析:

一、臺(tái)積電3nm工藝的困境

  1. 量產(chǎn)延遲

    • 臺(tái)積電原本計(jì)劃在特定時(shí)間量產(chǎn)3nm工藝(也稱為N3),但由于多種原因,量產(chǎn)被延遲了大約3到4個(gè)月。這種延遲直接影響了其客戶的產(chǎn)品規(guī)劃,包括蘋果。

    • 臺(tái)積電還遇到了良率問(wèn)題,這使得3nm芯片的量產(chǎn)更加困難。據(jù)報(bào)道,A17和M3處理器的良率僅約為55%,這遠(yuǎn)低于理想水平。

  2. 客戶選擇變化

    • 臺(tái)積電原本預(yù)計(jì)Intel和蘋果會(huì)成為其3nm工藝的主要客戶。然而,由于Intel自家GPU芯片研發(fā)不順,選擇延遲了兩年并放棄了臺(tái)積電的3nm工藝。

    • 蘋果雖然對(duì)3nm工藝充滿期待,但由于量產(chǎn)時(shí)間延遲和可能的技術(shù)水準(zhǔn)不達(dá)標(biāo),最終選擇了N4工藝。此外,有消息稱蘋果可能會(huì)采用臺(tái)積電改良后的N3E工藝,但這取決于N3E工藝的研發(fā)進(jìn)度和量產(chǎn)能力。

  3. 財(cái)務(wù)和技術(shù)壓力

    • 臺(tái)積電在3nm工藝上投入了大量資金,但由于量產(chǎn)延遲和客戶選擇變化,這些投資可能無(wú)法得到預(yù)期的回報(bào)。這給臺(tái)積電的財(cái)務(wù)狀況帶來(lái)了巨大壓力。

    • 同時(shí),為了保持技術(shù)領(lǐng)先地位,臺(tái)積電還需要繼續(xù)投入資金研發(fā)更先進(jìn)的工藝,如N3X、N2、N2P以及革命性的A16工藝。這些投入進(jìn)一步增加了其財(cái)務(wù)和技術(shù)風(fēng)險(xiǎn)。

二、對(duì)蘋果iPhone新機(jī)的影響

  1. 芯片選擇受限

    • 由于臺(tái)積電3nm工藝的量產(chǎn)延遲和良率問(wèn)題,蘋果在下一代iPhone新機(jī)中可能無(wú)法采用3nm芯片。這意味著蘋果可能需要繼續(xù)沿用上一代的芯片或選擇其他工藝節(jié)點(diǎn)的芯片。

  2. 產(chǎn)品競(jìng)爭(zhēng)力

    • 3nm芯片在性能、功耗和面積等方面具有顯著優(yōu)勢(shì)。如果蘋果無(wú)法采用3nm芯片,其iPhone新機(jī)的競(jìng)爭(zhēng)力可能會(huì)受到一定影響。然而,蘋果可以通過(guò)優(yōu)化軟件和應(yīng)用場(chǎng)景來(lái)彌補(bǔ)硬件上的不足。

  3. 市場(chǎng)反應(yīng)

    • 消費(fèi)者對(duì)iPhone新機(jī)的期待往往包括性能提升和新技術(shù)應(yīng)用。如果蘋果無(wú)法采用3nm芯片,消費(fèi)者可能會(huì)對(duì)新產(chǎn)品產(chǎn)生一定的失望情緒。然而,蘋果的品牌影響力和用戶忠誠(chéng)度仍然較高,因此市場(chǎng)反應(yīng)可能因人而異。

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三、未來(lái)展望

  1. 技術(shù)突破

    • 臺(tái)積電正在加快N3E工藝的研發(fā)進(jìn)度,并計(jì)劃在未來(lái)推出更先進(jìn)的N3X、N2、N2P和A16工藝。這些技術(shù)突破有望為蘋果等客戶提供更高性能的芯片解決方案。

  2. 合作模式調(diào)整

    • 蘋果和臺(tái)積電之間的合作關(guān)系非常緊密。為了應(yīng)對(duì)3nm工藝的挑戰(zhàn),雙方可能會(huì)調(diào)整合作模式,共同推進(jìn)技術(shù)研發(fā)和量產(chǎn)進(jìn)度。

  3. 市場(chǎng)變化

    • 隨著半導(dǎo)體技術(shù)的不斷發(fā)展和市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)的加劇,未來(lái)可能會(huì)有更多的芯片制造商和代工廠商涌現(xiàn)。這將為蘋果等客戶提供更多的選擇空間,并推動(dòng)整個(gè)行業(yè)的創(chuàng)新發(fā)展。

綜上所述,臺(tái)積電先進(jìn)工藝遇難題對(duì)蘋果明年iPhone新機(jī)采用3nm芯片產(chǎn)生了潛在影響。然而,隨著技術(shù)突破和合作模式的調(diào)整,蘋果仍然有望在未來(lái)推出具有競(jìng)爭(zhēng)力的iPhone新機(jī)。


責(zé)任編輯:David

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標(biāo)簽: 驍龍898 臺(tái)積電 高通

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