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國內(nèi)光刻機
國內(nèi)光刻機
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對于光刻機的概念，還是引用百度百科的文字吧。“光刻機（Mask Aligner) 又名：掩模對準曝光機，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等。常用的光刻機是掩膜對準光刻，所以叫 Mask Alignment System.一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕等工序。

國內(nèi)光刻機設(shè)備現(xiàn)狀
國內(nèi)光刻機設(shè)備現(xiàn)狀
國內(nèi)光刻機設(shè)備現(xiàn)狀可以從技術(shù)水平、市場份額、企業(yè)競爭力以及面臨的挑戰(zhàn)等方面來進行分析。一、技術(shù)水平國內(nèi)光刻機技術(shù)在近年來取得了顯著進步，但與國際領(lǐng)先水平相比仍存在一定差距。目前，國內(nèi)光刻機的技術(shù)水平主要集中在90nm至180nm的精度范圍內(nèi)，而世界領(lǐng)先水平已經(jīng)達到了5nm甚至3nm。不過，值得注意的是，國內(nèi)企業(yè)在后道光刻機領(lǐng)域已經(jīng)取得了重......
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