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外光刻機
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光刻機（又稱曝光機）是生產大規(guī)模集成電路的核心設備，制造和維護需要高度的光學和電子工業(yè)基礎，世界上只有少數(shù)廠家掌握。光刻機的作用是掃描曝光芯片晶圓，刻蝕集成電路。精度越高的光刻機，能生產出納米尺寸更小，功能更強大的芯片。小于5納米的芯片晶圓，只能用EUV光刻機生產。

美光科技將引入極紫外光刻機，2024 年部署到部分工藝節(jié)點
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美光科技將引入極紫外光刻機，并計劃在2024年部署到部分工藝節(jié)點的消息，是基于其長期技術發(fā)展規(guī)劃和市場需求做出的重要決策。以下是對此消息的詳細解讀：一、背景與計劃技術背景：極紫外光刻機（EUV光刻機）是半導體制造領域的一項先進技術，它以波長為10~14納米的極紫外光作為光源，可用于制造14納米及以下的先進制程芯片。這項技術對于提高芯片的性......
外光刻機 DRAM 存儲芯片
2021-07-05
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