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反應(yīng)離子刻蝕
反應(yīng)離子刻蝕
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反應(yīng)離子腐蝕技術(shù)是一種各向異性很強(qiáng)、選擇性高的干法腐蝕技術(shù)。它是在真空系統(tǒng)中利用分子氣體等離子來進(jìn)行刻蝕的，利用了離子誘導(dǎo)化學(xué)反應(yīng)來實(shí)現(xiàn)各向異性刻蝕，即是利用離子能量來使被刻蝕層的表面形成容易刻蝕的損傷層和促進(jìn)化學(xué)反應(yīng)，同時(shí)離子還可清除表面生成物以露出清潔的刻蝕表面的作用。但是該刻蝕技術(shù)不能獲得較高的選擇比，對表面的損傷大，有污染，難以形成更精細(xì)的圖形

揭秘半導(dǎo)體制造全流程（中篇）
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揭秘半導(dǎo)體制造全流程（中篇）主要圍繞晶圓上的薄膜沉積、刻蝕、離子注入以及互連等關(guān)鍵步驟進(jìn)行闡述。一、薄膜沉積薄膜沉積是半導(dǎo)體制造中的重要環(huán)節(jié)，用于在晶圓上形成各種功能的薄膜層。這些薄膜可能是導(dǎo)電的、絕緣的或具有其他特殊性質(zhì)，用于構(gòu)建電路的不同部分。主要方法包括：化學(xué)氣相沉積（CVD）：原理：前驅(qū)氣體在反應(yīng)腔中發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，生成附著在晶圓表......
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2021-07-30
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