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PVD設(shè)備
PVD設(shè)備
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PVD(物理氣相沉積)技術(shù)即在真空條件下，采用物理方法，將材料源——固體或液體表面氣化成氣態(tài)原子、分子或部分電離成離子，并通過低壓氣體(或等離子體)過程，在基體表面沉積具有某種特殊功能的薄膜的技術(shù)。其早在20世紀(jì)初已有些應(yīng)用，但30年迅速發(fā)展，成為一門極具廣闊應(yīng)用前景的新技術(shù)，目前其主要應(yīng)用于半導(dǎo)體制造的流程之中，在注塑模具，五金模具以及機(jī)械與化工領(lǐng)域均有應(yīng)用。

國產(chǎn)半導(dǎo)體沉積設(shè)備已覆蓋成熟與先進(jìn)制程，自給率已突破10%，正逐步攀升
國產(chǎn)半導(dǎo)體沉積設(shè)備已覆蓋成熟與先進(jìn)制程，自給率已突破10%，正逐步攀升
國產(chǎn)半導(dǎo)體沉積設(shè)備在近年來取得了顯著進(jìn)展，已經(jīng)覆蓋了成熟與先進(jìn)制程，自給率已突破10%，并正在逐步攀升。以下是對(duì)這一情況的詳細(xì)分析：一、自給率提升情況自給率突破10%：據(jù)拓墣產(chǎn)業(yè)研究院等權(quán)威機(jī)構(gòu)的研究數(shù)據(jù)顯示，中國本土半導(dǎo)體制造所需的沉積設(shè)備自給率在2020年已達(dá)到10%，這是一個(gè)重要的里程碑，標(biāo)志著國產(chǎn)沉積設(shè)備在技術(shù)和市場應(yīng)用上取得了顯......
PVD設(shè)... 半導(dǎo)體沉... 清洗設(shè)備
2021-09-16
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