原標題：國產(chǎn)半導體設備商拓荊科技沖刺科創(chuàng)板：供貨中芯華虹長江存儲，已進 14nm 產(chǎn)線

國產(chǎn)半導體設備商拓荊科技在沖刺科創(chuàng)板的過程中，展現(xiàn)了其在半導體薄膜沉積設備領域的顯著成就和競爭力。以下是對該話題的詳細分析：

一、公司概況與業(yè)務

拓荊科技股份有限公司成立于2010年04月28日，總部位于遼寧省沈陽市渾南區(qū)。公司主營業(yè)務為半導體薄膜沉積設備的研發(fā)、生產(chǎn)和銷售，主要產(chǎn)品包括等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)設備、原子層沉積(ALD)設備和次常壓化學氣相沉積(SACVD)設備三個系列。這些設備在芯片制造過程中具有關鍵作用，與光刻機、刻蝕機共同構成芯片制造的三大主設備。

二、市場地位與供貨情況

拓荊科技是國內唯一一家產(chǎn)業(yè)化應用的集成電路PECVD、SACVD設備廠商，其產(chǎn)品在市場上具有重要地位。公司供貨給中芯國際、華虹集團、長江存儲等國內主流晶圓廠，產(chǎn)品已廣泛應用于28/14nm邏輯芯片、19/17nm DRAM芯片和64/128層3D NAND FLASH晶圓制造產(chǎn)線。此外，公司還開始了10nm及以下制程產(chǎn)品的驗證測試，顯示出其在先進制程領域的研發(fā)實力和市場前瞻性。

三、科創(chuàng)板沖刺與融資計劃

拓荊科技沖刺科創(chuàng)板的過程備受關注。公司在科創(chuàng)板IPO申請中已獲得受理，并計劃募資約10億元，用于高端半導體設備擴產(chǎn)、先進半導體設備的技術研發(fā)與改進、ALD設備研發(fā)與產(chǎn)業(yè)化和補充流動資金等項目。這一舉措將助力公司進一步擴大產(chǎn)能、提升技術水平并增強市場競爭力。

四、技術研發(fā)與創(chuàng)新能力

拓荊科技在技術研發(fā)方面表現(xiàn)出色。公司擁有一支強大的研發(fā)團隊，研發(fā)人員占比高達43.56%，且核心技術人員均具備豐富的行業(yè)經(jīng)驗和技術背景。公司在機臺結構、傳動模塊、反應腔體、關鍵結構件、氣路、溫度控制系統(tǒng)等方面形成了一系列自研設計，并構建了較為完善的知識產(chǎn)權體系。截至當前時間，公司累計已獲授權的專利達數(shù)百項，其中發(fā)明專利占據(jù)相當比例。

五、財務狀況與市場前景

盡管拓荊科技在研發(fā)投入上持續(xù)加大力度，導致公司尚未實現(xiàn)盈利，但其營收增長迅速。從2018年至2020年，公司營業(yè)收入從7064.4萬元增長至4.36億元，復合增長率達148.32%。隨著半導體產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展和市場需求的不斷增長，拓荊科技的市場前景廣闊。公司表示將加大集成電路核心先進設備的研發(fā)力度，保持技術領先并擴大產(chǎn)業(yè)規(guī)模以進一步提升市場占有率。

六、總結與展望

綜上所述，拓荊科技作為國產(chǎn)半導體設備商在沖刺科創(chuàng)板的過程中展現(xiàn)了其強大的技術實力和市場競爭力。公司供貨給中芯國際、華虹集團、長江存儲等國內主流晶圓廠并已進入14nm產(chǎn)線顯示出其產(chǎn)品的廣泛應用和高端性能。未來隨著公司融資計劃的實施和研發(fā)力度的加大拓荊科技有望在半導體薄膜沉積設備領域取得更加顯著的成就并為我國半導體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展做出重要貢獻。