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國產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備商拓荊科技沖刺科創(chuàng)板:供貨中芯華虹長江存儲,已進(jìn) 14nm 產(chǎn)線

來源: 中電網(wǎng)
2021-07-15
類別:業(yè)界動態(tài)
eye 40
文章創(chuàng)建人 拍明

原標(biāo)題:國產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備商拓荊科技沖刺科創(chuàng)板:供貨中芯華虹長江存儲,已進(jìn) 14nm 產(chǎn)線

國產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備商拓荊科技在沖刺科創(chuàng)板的過程中,展現(xiàn)了其在半導(dǎo)體薄膜沉積設(shè)備領(lǐng)域的顯著成就和競爭力。以下是對該話題的詳細(xì)分析:

一、公司概況與業(yè)務(wù)

拓荊科技股份有限公司成立于2010年04月28日,總部位于遼寧省沈陽市渾南區(qū)。公司主營業(yè)務(wù)為半導(dǎo)體薄膜沉積設(shè)備的研發(fā)、生產(chǎn)和銷售,主要產(chǎn)品包括等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD)設(shè)備、原子層沉積(ALD)設(shè)備和次常壓化學(xué)氣相沉積(SACVD)設(shè)備三個系列。這些設(shè)備在芯片制造過程中具有關(guān)鍵作用,與光刻機(jī)、刻蝕機(jī)共同構(gòu)成芯片制造的三大主設(shè)備。

二、市場地位與供貨情況

拓荊科技是國內(nèi)唯一一家產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用的集成電路PECVD、SACVD設(shè)備廠商,其產(chǎn)品在市場上具有重要地位。公司供貨給中芯國際、華虹集團(tuán)、長江存儲等國內(nèi)主流晶圓廠,產(chǎn)品已廣泛應(yīng)用于28/14nm邏輯芯片、19/17nm DRAM芯片和64/128層3D NAND FLASH晶圓制造產(chǎn)線。此外,公司還開始了10nm及以下制程產(chǎn)品的驗(yàn)證測試,顯示出其在先進(jìn)制程領(lǐng)域的研發(fā)實(shí)力和市場前瞻性。


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三、科創(chuàng)板沖刺與融資計(jì)劃

拓荊科技沖刺科創(chuàng)板的過程備受關(guān)注。公司在科創(chuàng)板IPO申請中已獲得受理,并計(jì)劃募資約10億元,用于高端半導(dǎo)體設(shè)備擴(kuò)產(chǎn)、先進(jìn)半導(dǎo)體設(shè)備的技術(shù)研發(fā)與改進(jìn)、ALD設(shè)備研發(fā)與產(chǎn)業(yè)化和補(bǔ)充流動資金等項(xiàng)目。這一舉措將助力公司進(jìn)一步擴(kuò)大產(chǎn)能、提升技術(shù)水平并增強(qiáng)市場競爭力。

四、技術(shù)研發(fā)與創(chuàng)新能力

拓荊科技在技術(shù)研發(fā)方面表現(xiàn)出色。公司擁有一支強(qiáng)大的研發(fā)團(tuán)隊(duì),研發(fā)人員占比高達(dá)43.56%,且核心技術(shù)人員均具備豐富的行業(yè)經(jīng)驗(yàn)和技術(shù)背景。公司在機(jī)臺結(jié)構(gòu)、傳動模塊、反應(yīng)腔體、關(guān)鍵結(jié)構(gòu)件、氣路、溫度控制系統(tǒng)等方面形成了一系列自研設(shè)計(jì),并構(gòu)建了較為完善的知識產(chǎn)權(quán)體系。截至當(dāng)前時(shí)間,公司累計(jì)已獲授權(quán)的專利達(dá)數(shù)百項(xiàng),其中發(fā)明專利占據(jù)相當(dāng)比例。

五、財(cái)務(wù)狀況與市場前景

盡管拓荊科技在研發(fā)投入上持續(xù)加大力度,導(dǎo)致公司尚未實(shí)現(xiàn)盈利,但其營收增長迅速。從2018年至2020年,公司營業(yè)收入從7064.4萬元增長至4.36億元,復(fù)合增長率達(dá)148.32%。隨著半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展和市場需求的不斷增長,拓荊科技的市場前景廣闊。公司表示將加大集成電路核心先進(jìn)設(shè)備的研發(fā)力度,保持技術(shù)領(lǐng)先并擴(kuò)大產(chǎn)業(yè)規(guī)模以進(jìn)一步提升市場占有率。

六、總結(jié)與展望

綜上所述,拓荊科技作為國產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備商在沖刺科創(chuàng)板的過程中展現(xiàn)了其強(qiáng)大的技術(shù)實(shí)力和市場競爭力。公司供貨給中芯國際、華虹集團(tuán)、長江存儲等國內(nèi)主流晶圓廠并已進(jìn)入14nm產(chǎn)線顯示出其產(chǎn)品的廣泛應(yīng)用和高端性能。未來隨著公司融資計(jì)劃的實(shí)施和研發(fā)力度的加大拓荊科技有望在半導(dǎo)體薄膜沉積設(shè)備領(lǐng)域取得更加顯著的成就并為我國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展做出重要貢獻(xiàn)。


責(zé)任編輯:David

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