關(guān)于即將100%國(guó)產(chǎn)的28nm和14nm芯片，以下是根據(jù)當(dāng)前信息和趨勢(shì)的詳細(xì)分析：28nm芯片現(xiàn)狀與發(fā)展：已實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)：在國(guó)產(chǎn)芯片領(lǐng)域，28nm芯片已經(jīng)取得了顯著的進(jìn)展。例如，北斗系統(tǒng)已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了28nm工藝芯片的量產(chǎn)，并成功應(yīng)用于其全球衛(wèi)星導(dǎo)航系統(tǒng)中。這表明國(guó)產(chǎn)28nm芯片在技術(shù)和生產(chǎn)上已經(jīng)達(dá)到了相當(dāng)成熟的水平。市場(chǎng)需求：28nm芯片在市場(chǎng)......

關(guān)于上海微電子年底前是否將推出28nm光刻機(jī)的問題，雖然目前沒有直接的信息表明該設(shè)備確切的推出時(shí)間，但可以從相關(guān)報(bào)道和公開信息中做一些合理的推斷。首先，上海微電子裝備公司（SMEE）在光刻機(jī)研發(fā)方面有著一定的實(shí)力和積累。有報(bào)道指出，上海微電子正在全力以赴開發(fā)國(guó)產(chǎn)28納米光刻機(jī)，并計(jì)劃在未來(lái)實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)。這表明上海微電子在28nm光刻機(jī)領(lǐng)域有明......

針對(duì)美國(guó)議員要求升級(jí)對(duì)中芯國(guó)際的制裁，并試圖阻止其獲得DUV光刻機(jī)等半導(dǎo)體設(shè)備的問題，以下是對(duì)此事件的詳細(xì)分析：一、事件背景美國(guó)議員，如盧比奧和麥考爾等人，曾聯(lián)名發(fā)聲，希望美國(guó)商務(wù)部能進(jìn)一步擴(kuò)大對(duì)中芯國(guó)際的限制。他們希望通過這種方式，卡住中芯國(guó)際16納米以下先進(jìn)制程的制造能力，并禁止阿斯麥（ASML）的DUV光刻機(jī)賣給中芯國(guó)際。這一提議的......