Cymer公司是世界領(lǐng)先的準(zhǔn)分子激光源提供商，發(fā)明了如今半導(dǎo)體制造中最關(guān)鍵的光蝕刻微影技術(shù)所需的深紫外光源。產(chǎn)品主要特性是：帶寬窄，運行速度高，可靠性強。Cymer光源在批量生產(chǎn)符合特定規(guī)格的的世上最先進的半導(dǎo)體芯片時起著決定性的作用。 　　在1960年代，芯片制造商使用可見光做為照射光源。到了1990年代，芯片制造商則開始使用熱汞氣(hot mercury gas)所產(chǎn)生較短波長的不可見紫外線做為照射光源，這種光源波長可使芯片的電路線寬縮小到0.35微米。接著芯片制造商還希望能由紫外線再改進至具有更短波長的X射線(X-ray)，但X-ray的成本仍然太高，而且很難被使用在芯片制造上。另一種可能做為芯片攝影平板技術(shù)(photolithography)的新光源是只有0.25微米波長的excimer雷射光。1997年，這項新雷射光源模塊（laser module）被一家叫Cymer Inc.的新廠商正式開發(fā)出來，并被運用在芯片制程的成影設(shè)備Stepper上 。