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紫外光刻機
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該光刻機可廣泛用于MEMS和光電子，例如LED生產(chǎn)。它經(jīng)過特殊設(shè)計，方便處理各種非標準基片、例如混合、高頻元件和易碎的III-V族材料，包括砷化鎵和磷化銦。而且該設(shè)備可通過選配升級套件，實現(xiàn)紫外納米壓印光刻。它具有以下亮點：高分辨率掩模對準光刻，特征尺寸優(yōu)于0.5微米、裝配SUSS的單視場顯微鏡或分視場顯微鏡，實現(xiàn)快速準確對準、針對厚膠工藝進行優(yōu)化的高分辨光學系統(tǒng)、可選配通用光學器件，在不同波長間進行快速切換等

美光科技將引入極紫外光刻機，2024 年部署到部分工藝節(jié)點
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美光科技將引入極紫外光刻機，并計劃在2024年部署到部分工藝節(jié)點的消息，是基于其長期技術(shù)發(fā)展規(guī)劃和市場需求做出的重要決策。以下是對此消息的詳細解讀：一、背景與計劃技術(shù)背景：極紫外光刻機（EUV光刻機）是半導體制造領(lǐng)域的一項先進技術(shù)，它以波長為10~14納米的極紫外光作為光源，可用于制造14納米及以下的先進制程芯片。這項技術(shù)對于提高芯片的性......
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2021-07-05
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三星電子已決定在得克薩斯州奧斯汀建設(shè) EUV 晶圓廠
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三星電子確實已決定在得克薩斯州奧斯汀建設(shè)EUV晶圓廠，以下是關(guān)于該項目的詳細分析：一、項目背景與決策三星電子為了擴大其半導體生產(chǎn)能力和滿足市場對先進制程技術(shù)的需求，決定在美國得克薩斯州奧斯汀建設(shè)一座采用極紫外光（EUV）技術(shù)的晶圓廠。這一決策是基于三星電子對全球半導體市場趨勢的深入分析和對未來需求的預測。二、項目概況投資規(guī)模：該項目預計投......
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2021-05-20
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南亞科技宣布新建一座12英寸晶圓廠，并投資107億美元（或3000億新臺幣，兩者匯率轉(zhuǎn)換后金額相近），以下是關(guān)于該項目的詳細情況：一、投資規(guī)模與資金分配南亞科技計劃投資3000億新臺幣（約107億美元）用于新建12英寸晶圓廠。該投資將分三階段進行，時間跨度長達7年。二、建設(shè)進度與規(guī)劃新晶圓廠預計將在某一年年底動工（具體年份可能因消息發(fā)布時......
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2021-04-22
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ASML：摩爾定律沒有減速或失效，還將持續(xù)10年或更久
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ASML（Advanced Semiconductor Materials Lithography）對于摩爾定律的看法是積極的，其認為摩爾定律沒有減速或失效，并且還將持續(xù)10年或更久。以下是對ASML這一觀點的詳細解釋：一、摩爾定律的定義與重要性摩爾定律是英特爾創(chuàng)始人戈登·摩爾提出的經(jīng)驗法則，它指出集成電路上可以容納的晶體管數(shù)目在大約每經(jīng)......
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