EUV光刻應(yīng)用
EUV光刻應(yīng)用
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用于高端邏輯半導(dǎo)體量產(chǎn)的EUV(Extreme Ultra-Violet,極紫外線光刻)曝光技術(shù)的未來藍圖逐漸“步入”我們的視野,從7nm階段的技術(shù)節(jié)點到今年(2019年,也是從今年開始),每2年~3年一個階段向新的技術(shù)節(jié)點發(fā)展。
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