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刻蝕設(shè)備
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刻蝕設(shè)備的發(fā)展和光刻技術(shù)，互連技術(shù)密切相關(guān)。High K / Low K材料，銅互連，Metal Gate，double Pattern等技術(shù)的發(fā)展都對(duì)刻蝕設(shè)備提出了新的需求·

總投資20億元！萬業(yè)企業(yè)攜手寧波芯恩打造國(guó)內(nèi)集成電路設(shè)備龍頭
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關(guān)于“總投資20億元！萬業(yè)企業(yè)攜手寧波芯恩打造國(guó)內(nèi)集成電路設(shè)備龍頭”的詳細(xì)情況，可以歸納如下：一、項(xiàng)目背景與目的項(xiàng)目背景：全球半導(dǎo)體市場(chǎng)芯片供應(yīng)緊縮、芯片需求爆發(fā)，銷售額連續(xù)17個(gè)月同比正增長(zhǎng)，晶圓廠商紛紛加大資本開支進(jìn)行擴(kuò)產(chǎn)。中國(guó)大陸半導(dǎo)體設(shè)備市場(chǎng)在全球占比約30%，但設(shè)備國(guó)產(chǎn)率仍偏低，國(guó)產(chǎn)替代成為共識(shí)。項(xiàng)目目的：萬業(yè)企業(yè)與寧波芯恩攜手......
刻蝕設(shè)備 尾氣處理... 薄膜沉積...
2021-12-27
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中微公司發(fā)布雙反應(yīng)臺(tái)電感耦合等離子體刻蝕設(shè)備Primo Twin－Star（R）
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中微公司發(fā)布的雙反應(yīng)臺(tái)電感耦合等離子體刻蝕設(shè)備Primo Twin-Star（R）是一款先進(jìn)的半導(dǎo)體加工設(shè)備，以下是對(duì)該設(shè)備的詳細(xì)介紹：一、設(shè)備概述Primo Twin-Star（R）是中微公司基于其成熟的單臺(tái)反應(yīng)器電感耦合等離子體（ICP）刻蝕技術(shù)和雙臺(tái)反應(yīng)器的Primo平臺(tái)而開發(fā)的新一代刻蝕設(shè)備。該設(shè)備主要用于IC器件前道和后道制程導(dǎo)......
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2021-03-17
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