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光刻機(jī)
光刻機(jī)
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光刻機(jī)和刻蝕機(jī)哪個(gè)更重要
光刻機(jī)和刻蝕機(jī)哪個(gè)更重要
光刻機(jī)和刻蝕機(jī)在芯片制造過程中都扮演著非常重要的角色，它們各自承擔(dān)著不同的任務(wù)，且互為補(bǔ)充。光刻機(jī)主要用于將掩膜板上的圖案轉(zhuǎn)移到硅片上，通過優(yōu)化光刻機(jī)的光學(xué)系統(tǒng)和控制算法，可以實(shí)現(xiàn)更高的分辨率和更精準(zhǔn)的圖案轉(zhuǎn)移。光刻機(jī)的作用是將設(shè)計(jì)好的芯片圖案投射到光敏感的化學(xué)物質(zhì)上，形成所需的圖案結(jié)構(gòu)，從而制作出芯片中的電路。而刻蝕機(jī)則主要用于去除芯片......
光刻機(jī)
2024-05-14
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中國14納米芯片光刻機(jī)
中國14納米芯片光刻機(jī)
中國在14納米芯片光刻機(jī)領(lǐng)域已經(jīng)取得了一定的進(jìn)展。據(jù)報(bào)道，哈工大實(shí)驗(yàn)團(tuán)隊(duì)在國產(chǎn)DUV光刻機(jī)的研發(fā)領(lǐng)域取得了重大突破，成功完成了核心部件的自行建造，使得14納米的光刻機(jī)有望在近期內(nèi)進(jìn)行量產(chǎn)。這一成果體現(xiàn)了中國在芯片制造技術(shù)研發(fā)方面的實(shí)力和潛力。光刻機(jī)是芯片制造過程中的關(guān)鍵設(shè)備之一，其精度直接影響到芯片制造的工藝水平和芯片性能。因此，擁有自主......
14納米...
2024-02-23
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上海微電子28nm光刻機(jī)
上海微電子28nm光刻機(jī)
上海微電子已成功研制出28nm光刻機(jī)，這是國內(nèi)唯一一家掌握光刻機(jī)技術(shù)的企業(yè)所取得的重大突破。光刻機(jī)是制造芯片的核心設(shè)備之一，其精度和穩(wěn)定性對(duì)于芯片制造的質(zhì)量和效率具有決定性的影響。28nm光刻機(jī)的研制成功，意味著中國芯片制造行業(yè)在核心技術(shù)方面取得了重要進(jìn)展，也為中國芯片產(chǎn)業(yè)的自主發(fā)展提供了有力支撐。光刻機(jī)是一種利用光學(xué)原理進(jìn)行高精度微納加......
上海微電... 28nm...
2024-02-23
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ASML下一代高精準(zhǔn)度EUV光刻機(jī)售價(jià)將高達(dá)3億美元
ASML下一代高精準(zhǔn)度EUV光刻機(jī)售價(jià)將高達(dá)3億美元
ASML（阿斯麥）下一代高精準(zhǔn)度EUV（極紫外）光刻機(jī)的售價(jià)確實(shí)預(yù)計(jì)將達(dá)到一個(gè)相當(dāng)高的水平，但具體售價(jià)可能會(huì)受到多種因素的影響，包括生產(chǎn)成本、市場(chǎng)需求、技術(shù)先進(jìn)性以及市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)態(tài)勢(shì)等。根據(jù)公開發(fā)布的信息，ASML的下一代高精準(zhǔn)度EUV光刻機(jī)，如EXE: 5000型號(hào)，其數(shù)值孔徑為0.55，可用于2nm節(jié)點(diǎn)以下芯片制造，如1.4nm、1nm等......
EUV光... 臺(tái)積電 制程節(jié)點(diǎn)
2021-12-24
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ASML下一代EUV光刻機(jī)將提前量產(chǎn)：售價(jià)3億美元，Intel首發(fā)采用
ASML下一代EUV光刻機(jī)將提前量產(chǎn)：售價(jià)3億美元，Intel首發(fā)采用
關(guān)于ASML下一代EUV光刻機(jī)將提前量產(chǎn)，售價(jià)為3億美元，并由Intel首發(fā)采用的信息，可以歸納如下：一、ASML下一代EUV光刻機(jī)概述ASML（阿斯麥）作為全球光刻機(jī)技術(shù)的領(lǐng)軍企業(yè)，其下一代EUV（極紫外）光刻機(jī)備受業(yè)界關(guān)注。這款光刻機(jī)采用了高數(shù)值孔徑（High NA）技術(shù)，能夠?qū)崿F(xiàn)更高的光刻分辨率，進(jìn)而推動(dòng)芯片制造工藝的進(jìn)一步升級(jí)。二......
EUV光... ASML 2D材料
2021-12-15
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英諾賽科成功導(dǎo)入ASML光刻機(jī)，進(jìn)一步提升產(chǎn)能和產(chǎn)線良率
英諾賽科成功導(dǎo)入ASML光刻機(jī)，進(jìn)一步提升產(chǎn)能和產(chǎn)線良率
英諾賽科（珠海）科技有限公司成功導(dǎo)入ASML光刻機(jī)，這一舉措對(duì)其進(jìn)一步提升產(chǎn)能和產(chǎn)線良率產(chǎn)生了顯著影響。以下是關(guān)于此事件的詳細(xì)分析：一、事件背景時(shí)間：2021年12月8日，英諾賽科為ASML光刻機(jī)成功導(dǎo)入8英寸硅基氮化鎵量產(chǎn)線舉辦了慶典。合作方：英諾賽科與全球芯片制造設(shè)備領(lǐng)導(dǎo)廠商ASML達(dá)成合作，引入了其先進(jìn)的光刻機(jī)設(shè)備。二、ASML光刻......
硅基氮化... ASML... 碳化硅(...
2021-12-10
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國產(chǎn)“28nm光刻機(jī)”又跳票？到底卡在了哪里？
國產(chǎn)“28nm光刻機(jī)”又跳票？到底卡在了哪里？
關(guān)于國產(chǎn)“28nm光刻機(jī)”是否又跳票以及具體卡在了哪里的問題，可以從以下幾個(gè)方面進(jìn)行分析：一、國產(chǎn)28nm光刻機(jī)的進(jìn)展與挑戰(zhàn)1. 進(jìn)展概述國產(chǎn)光刻機(jī)技術(shù)一直在不斷發(fā)展和進(jìn)步。近年來，國內(nèi)企業(yè)如上海微電子等在光刻機(jī)領(lǐng)域取得了顯著成就，已經(jīng)能夠量產(chǎn)90nm分辨率的ArF光刻機(jī)，并有望在28nm分辨率的光刻機(jī)上取得突破。然而，關(guān)于國產(chǎn)“28nm......
28nm... 上海微電...
2021-12-07
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國內(nèi)光刻機(jī)設(shè)備現(xiàn)狀
國內(nèi)光刻機(jī)設(shè)備現(xiàn)狀
國內(nèi)光刻機(jī)設(shè)備現(xiàn)狀可以從技術(shù)水平、市場(chǎng)份額、企業(yè)競(jìng)爭(zhēng)力以及面臨的挑戰(zhàn)等方面來進(jìn)行分析。一、技術(shù)水平國內(nèi)光刻機(jī)技術(shù)在近年來取得了顯著進(jìn)步，但與國際領(lǐng)先水平相比仍存在一定差距。目前，國內(nèi)光刻機(jī)的技術(shù)水平主要集中在90nm至180nm的精度范圍內(nèi)，而世界領(lǐng)先水平已經(jīng)達(dá)到了5nm甚至3nm。不過，值得注意的是，國內(nèi)企業(yè)在后道光刻機(jī)領(lǐng)域已經(jīng)取得了重......
國內(nèi)光刻... 光刻機(jī)設(shè)...
2021-12-07
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國產(chǎn)光刻機(jī)背后的希望
國產(chǎn)光刻機(jī)背后的希望
國產(chǎn)光刻機(jī)背后的希望主要體現(xiàn)在以下幾個(gè)方面：一、政策支持與資金投入政策支持：中國政府高度重視半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，包括光刻機(jī)在內(nèi)的關(guān)鍵設(shè)備研發(fā)得到了國家政策的大力支持。政府通過制定一系列政策措施，如稅收優(yōu)惠、資金支持、人才引進(jìn)等，為國產(chǎn)光刻機(jī)的研發(fā)提供了有力保障。資金投入：隨著國家對(duì)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的投入不斷增加，國產(chǎn)光刻機(jī)的研發(fā)資金也得到了顯著提......
國產(chǎn)光刻... EUV光...
2021-12-07
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“02專項(xiàng)“為何非要選擇28納米光刻機(jī)這么一個(gè)數(shù)字？
“02專項(xiàng)“為何非要選擇28納米光刻機(jī)這么一個(gè)數(shù)字？
“02專項(xiàng)”選擇28納米光刻機(jī)作為目標(biāo)，并非隨意之舉，而是基于多方面的考量和技術(shù)限制。以下是對(duì)此選擇的詳細(xì)分析：一、技術(shù)可行性最佳分辨率：28納米是193nm ArF激光干法光刻結(jié)合double patterning技術(shù)所能達(dá)到的最佳分辨率。這種技術(shù)組合在現(xiàn)有條件下具有相對(duì)較高的可行性。單次光刻的分辨率受限于光源波長(zhǎng)、透鏡組數(shù)值孔徑以及曝......
28nm... 28納米...
2021-12-07
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28nm光刻機(jī)卡住“02專項(xiàng)”——對(duì)于督工部分觀點(diǎn)的批判（睡前消息353期）
28nm光刻機(jī)卡住“02專項(xiàng)”——對(duì)于督工部分觀點(diǎn)的批判（睡前消息353期）
關(guān)于“28nm光刻機(jī)卡住‘02專項(xiàng)’——對(duì)于督工部分觀點(diǎn)的批判（睡前消息353期）”這一話題，首先需要明確的是，督工（即馬督工）的觀點(diǎn)可能基于其個(gè)人理解和對(duì)當(dāng)前技術(shù)、市場(chǎng)及政策環(huán)境的分析，但并不一定完全準(zhǔn)確或全面。以下是對(duì)督工部分觀點(diǎn)可能存在的批判性思考：一、對(duì)技術(shù)難度的理解督工觀點(diǎn)： 可能認(rèn)為28nm光刻機(jī)的研發(fā)難度過大，導(dǎo)致無法按期通......
28nm...
2021-12-07
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不用EUV光刻機(jī)也能造5nm芯片？鎧俠攜手NDP與佳能力推NIL技術(shù)
不用EUV光刻機(jī)也能造5nm芯片？鎧俠攜手NDP與佳能力推NIL技術(shù)
是的，不用EUV光刻機(jī)也能造5nm芯片，這得益于鎧俠攜手NDP（大日本印刷株式會(huì)社）與佳能共同力推的NIL（納米壓印微影）技術(shù)。技術(shù)背景與優(yōu)勢(shì)EUV光刻機(jī)問題：在半導(dǎo)體制程技術(shù)進(jìn)入5nm節(jié)點(diǎn)后，EUV光刻機(jī)成為了不可或缺的關(guān)鍵設(shè)備。然而，EUV光刻機(jī)造價(jià)高昂（每臺(tái)價(jià)格超過1億美元），且僅荷蘭ASML一家能夠生產(chǎn)供應(yīng)，產(chǎn)能有限，導(dǎo)致芯片生產(chǎn)......
EUV光... 納米壓印... 手機(jī)應(yīng)用...
2021-10-26
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光刻機(jī)龍頭 ASML 第三季度業(yè)績(jī)激增近 70%，EUV 光刻業(yè)務(wù)出貨量刷新紀(jì)錄
光刻機(jī)龍頭 ASML 第三季度業(yè)績(jī)激增近 70%，EUV 光刻業(yè)務(wù)出貨量刷新紀(jì)錄...
光刻機(jī)龍頭ASML（阿斯麥）在第三季度的業(yè)績(jī)確實(shí)實(shí)現(xiàn)了顯著增長(zhǎng)，并且EUV（極紫外光）光刻業(yè)務(wù)的出貨量也刷新了紀(jì)錄。以下是對(duì)該情況的詳細(xì)分析：一、第三季度業(yè)績(jī)激增近70%凈利潤(rùn)增長(zhǎng)：ASML公布的2021年第三季度業(yè)績(jī)顯示，其凈利潤(rùn)達(dá)到了17億歐元，與上一季度相比增長(zhǎng)了67.6%，這是一個(gè)非常顯著的增幅。凈銷售額增長(zhǎng)：同時(shí)，該季度的凈銷售......
光刻機(jī) 邏輯節(jié)點(diǎn) 光刻系統(tǒng)
2021-10-22
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報(bào)告：半導(dǎo)體設(shè)備國產(chǎn)化正加速，今年預(yù)計(jì)將建成 8 座高產(chǎn)能晶圓廠
報(bào)告：半導(dǎo)體設(shè)備國產(chǎn)化正加速，今年預(yù)計(jì)將建成 8 座高產(chǎn)能晶圓廠
關(guān)于“半導(dǎo)體設(shè)備國產(chǎn)化正加速，今年預(yù)計(jì)將建成8座高產(chǎn)能晶圓廠”的報(bào)告，我們可以從以下幾個(gè)方面進(jìn)行詳細(xì)分析：一、半導(dǎo)體設(shè)備國產(chǎn)化加速的背景全球趨勢(shì)：近年來，全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)持續(xù)向中國大陸轉(zhuǎn)移，這為中國半導(dǎo)體設(shè)備國產(chǎn)化提供了良好的外部環(huán)境。隨著技術(shù)的不斷進(jìn)步和市場(chǎng)的不斷擴(kuò)大，國內(nèi)半導(dǎo)體設(shè)備廠商在各自優(yōu)勢(shì)環(huán)節(jié)逐漸取得突破。政策支持：中國政府高度重......
熱處理設(shè)... 光刻機(jī) 清洗設(shè)備
2021-09-26
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半導(dǎo)體分析機(jī)構(gòu)：阿斯麥 ASML 是英特爾追上臺(tái)積電的“救世主”
半導(dǎo)體分析機(jī)構(gòu)：阿斯麥 ASML 是英特爾追上臺(tái)積電的“救世主”
半導(dǎo)體分析機(jī)構(gòu)認(rèn)為阿斯麥（ASML）對(duì)于英特爾追上臺(tái)積電具有關(guān)鍵作用，這一觀點(diǎn)主要基于以下幾個(gè)方面：一、技術(shù)領(lǐng)先性的重要性1. EUV技術(shù)的領(lǐng)先優(yōu)勢(shì)：臺(tái)積電在EUV（極紫外光刻）工具數(shù)量和經(jīng)驗(yàn)方面遙遙領(lǐng)先于英特爾。EUV技術(shù)是先進(jìn)技術(shù)節(jié)點(diǎn)的關(guān)鍵，對(duì)于提升芯片制造精度和性能至關(guān)重要。當(dāng)年ASML在EUV技術(shù)拓展上遇到困難時(shí)，蘋果通過向臺(tái)積電......
光刻機(jī) 三星 晶體管
2021-09-14
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阿斯麥新一代 EUV 光刻機(jī)開始制造：造價(jià) 1.5 億美元，公共汽車大小
阿斯麥新一代 EUV 光刻機(jī)開始制造：造價(jià) 1.5 億美元，公共汽車大小
　　阿斯麥（ASML）是全球領(lǐng)先的半導(dǎo)體設(shè)備制造商，其EUV（極紫外光）光刻機(jī)在芯片制造中扮演著至關(guān)重要的角色。近日，阿斯麥宣布已經(jīng)開始制造新一代的EUV光刻機(jī)，這款機(jī)器的造價(jià)高達(dá)1.5億美元，體積相當(dāng)于一輛公共汽車?！　∵@款新一代的EUV光刻機(jī)預(yù)計(jì)將大幅提升芯片制造的精度和效率，為未來的半導(dǎo)體技術(shù)發(fā)展提供強(qiáng)大的支持。盡管造價(jià)高昂，但對(duì)于......
新型晶體... 人工智能 云計(jì)算機(jī)...
2021-09-03
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中芯國際回應(yīng)是否有自己的光刻機(jī)：從外部采購而來
中芯國際回應(yīng)是否有自己的光刻機(jī)：從外部采購而來
中芯國際在回應(yīng)是否有自己的光刻機(jī)時(shí)明確表示，其光刻機(jī)是從外部采購而來的。以下是對(duì)此問題的詳細(xì)解析：一、中芯國際的光刻機(jī)采購情況采購來源：中芯國際的光刻機(jī)主要來自全球領(lǐng)先的光刻機(jī)制造商，如荷蘭的ASML（阿斯麥）公司。ASML是全球光刻機(jī)技術(shù)最先進(jìn)的廠商，其生產(chǎn)的EUV光刻機(jī)是目前唯一能夠用于生產(chǎn)制造7nm以下芯片的設(shè)備。然而，由于技術(shù)限制......
光刻機(jī) 中芯國際 集成電路...
2021-08-16
78
美光科技將引入極紫外光刻機(jī)，2024 年部署到部分工藝節(jié)點(diǎn)
美光科技將引入極紫外光刻機(jī)，2024 年部署到部分工藝節(jié)點(diǎn)
美光科技將引入極紫外光刻機(jī)，并計(jì)劃在2024年部署到部分工藝節(jié)點(diǎn)的消息，是基于其長(zhǎng)期技術(shù)發(fā)展規(guī)劃和市場(chǎng)需求做出的重要決策。以下是對(duì)此消息的詳細(xì)解讀：一、背景與計(jì)劃技術(shù)背景：極紫外光刻機(jī)（EUV光刻機(jī)）是半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的一項(xiàng)先進(jìn)技術(shù)，它以波長(zhǎng)為10~14納米的極紫外光作為光源，可用于制造14納米及以下的先進(jìn)制程芯片。這項(xiàng)技術(shù)對(duì)于提高芯片的性......
外光刻機(jī) DRAM 存儲(chǔ)芯片
2021-07-05
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ASML攜手東京電子研發(fā)下一代EUV光刻機(jī)，預(yù)計(jì)2023年投入運(yùn)行
ASML攜手東京電子研發(fā)下一代EUV光刻機(jī)，預(yù)計(jì)2023年投入運(yùn)行
英飛凌科技股份公司（Infineon）推出的EiceDRIVER X3 Enhanced和X3 Compact柵極驅(qū)動(dòng)器系列增強(qiáng)型隔離產(chǎn)品，為工業(yè)應(yīng)用提供了更高水平的安全性和可靠性。以下是對(duì)這兩個(gè)系列增強(qiáng)型隔離產(chǎn)品的詳細(xì)介紹：一、產(chǎn)品概述EiceDRIVER X3 Enhanced系列該系列包括模擬（1ED34xx）和數(shù)字（1ED38xx......
EUV光... 工藝模塊 高蝕刻電...
2021-06-15
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上海微電子年底前將推出28nm光刻機(jī)？
上海微電子年底前將推出28nm光刻機(jī)？
關(guān)于上海微電子年底前是否將推出28nm光刻機(jī)的問題，雖然目前沒有直接的信息表明該設(shè)備確切的推出時(shí)間，但可以從相關(guān)報(bào)道和公開信息中做一些合理的推斷。首先，上海微電子裝備公司（SMEE）在光刻機(jī)研發(fā)方面有著一定的實(shí)力和積累。有報(bào)道指出，上海微電子正在全力以赴開發(fā)國產(chǎn)28納米光刻機(jī)，并計(jì)劃在未來實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)。這表明上海微電子在28nm光刻機(jī)領(lǐng)域有明......
5G設(shè)備... 激光系統(tǒng) DUV光...
2021-06-11
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