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EUVL芯片制造的工作原理
EUVL芯片制造的工作原理
　　　　該晶圓在原型設備上使用 極紫外光刻技術(EUVL)。查看更多 電腦硬件圖片.　　照片由桑迪亞國家實驗室提供近半個世紀以來，硅一直是世界技術繁榮的核心，但 微處理器 制造商幾乎已經(jīng)從中擠出了生命。目前用于制造微處理器的技術將在2005年左右開始達到極限。屆時，芯片制造商將不得不尋求其他技術來填充更多。 晶體管 在硅上制造更強大的......
EUVL...
2023-02-02
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ASML下一代高精準度EUV光刻機售價將高達3億美元
ASML下一代高精準度EUV光刻機售價將高達3億美元
ASML（阿斯麥）下一代高精準度EUV（極紫外）光刻機的售價確實預計將達到一個相當高的水平，但具體售價可能會受到多種因素的影響，包括生產(chǎn)成本、市場需求、技術先進性以及市場競爭態(tài)勢等。根據(jù)公開發(fā)布的信息，ASML的下一代高精準度EUV光刻機，如EXE: 5000型號，其數(shù)值孔徑為0.55，可用于2nm節(jié)點以下芯片制造，如1.4nm、1nm等......
EUV光... 臺積電 制程節(jié)點
2021-12-24
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ASML下一代EUV光刻機將提前量產(chǎn)：售價3億美元，Intel首發(fā)采用
ASML下一代EUV光刻機將提前量產(chǎn)：售價3億美元，Intel首發(fā)采用
關于ASML下一代EUV光刻機將提前量產(chǎn)，售價為3億美元，并由Intel首發(fā)采用的信息，可以歸納如下：一、ASML下一代EUV光刻機概述ASML（阿斯麥）作為全球光刻機技術的領軍企業(yè)，其下一代EUV（極紫外）光刻機備受業(yè)界關注。這款光刻機采用了高數(shù)值孔徑（High NA）技術，能夠實現(xiàn)更高的光刻分辨率，進而推動芯片制造工藝的進一步升級。二......
EUV光... ASML 2D材料
2021-12-15
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不用EUV光刻機也能造5nm芯片？鎧俠攜手NDP與佳能力推NIL技術
不用EUV光刻機也能造5nm芯片？鎧俠攜手NDP與佳能力推NIL技術
是的，不用EUV光刻機也能造5nm芯片，這得益于鎧俠攜手NDP（大日本印刷株式會社）與佳能共同力推的NIL（納米壓印微影）技術。技術背景與優(yōu)勢EUV光刻機問題：在半導體制程技術進入5nm節(jié)點后，EUV光刻機成為了不可或缺的關鍵設備。然而，EUV光刻機造價高昂（每臺價格超過1億美元），且僅荷蘭ASML一家能夠生產(chǎn)供應，產(chǎn)能有限，導致芯片生產(chǎn)......
EUV光... 納米壓印... 手機應用...
2021-10-26
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光刻機龍頭 ASML 第三季度業(yè)績激增近 70%，EUV 光刻業(yè)務出貨量刷新紀錄
光刻機龍頭 ASML 第三季度業(yè)績激增近 70%，EUV 光刻業(yè)務出貨量刷新紀錄...
光刻機龍頭ASML（阿斯麥）在第三季度的業(yè)績確實實現(xiàn)了顯著增長，并且EUV（極紫外光）光刻業(yè)務的出貨量也刷新了紀錄。以下是對該情況的詳細分析：一、第三季度業(yè)績激增近70%凈利潤增長：ASML公布的2021年第三季度業(yè)績顯示，其凈利潤達到了17億歐元，與上一季度相比增長了67.6%，這是一個非常顯著的增幅。凈銷售額增長：同時，該季度的凈銷售......
光刻機 邏輯節(jié)點 光刻系統(tǒng)
2021-10-22
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三星14納米EUV DDR5 DRAM正式量產(chǎn)
三星14納米EUV DDR5 DRAM正式量產(chǎn)
三星14納米EUV DDR5 DRAM正式量產(chǎn)是三星在DRAM技術領域的一項重要里程碑。以下是關于這一事件的詳細解答：一、量產(chǎn)背景技術基礎：三星通過開拓關鍵的圖案化創(chuàng)新技術，在近三年的時間里一直引領著DRAM市場。此次量產(chǎn)的14納米EUV DDR5 DRAM，是三星在DRAM工藝上的又一次重大突破。市場定位：三星的14納米EUV DDR5......
企業(yè)服務... 超級計算... EUV技...
2021-10-13
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阿斯麥新一代 EUV 光刻機開始制造：造價 1.5 億美元，公共汽車大小
阿斯麥新一代 EUV 光刻機開始制造：造價 1.5 億美元，公共汽車大小
　　阿斯麥（ASML）是全球領先的半導體設備制造商，其EUV（極紫外光）光刻機在芯片制造中扮演著至關重要的角色。近日，阿斯麥宣布已經(jīng)開始制造新一代的EUV光刻機，這款機器的造價高達1.5億美元，體積相當于一輛公共汽車?！　∵@款新一代的EUV光刻機預計將大幅提升芯片制造的精度和效率，為未來的半導體技術發(fā)展提供強大的支持。盡管造價高昂，但對于......
新型晶體... 人工智能 云計算機...
2021-09-03
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三星可穿戴芯片 Exynos W920 正式發(fā)布：采用 5nm EUV 工藝，CPU 快 20%，GPU 快 1000%
三星可穿戴芯片 Exynos W920 正式發(fā)布：采用 5nm EUV 工藝，C...
三星可穿戴芯片Exynos W920的正式發(fā)布，標志著三星在可穿戴設備芯片領域的又一重要進步。以下是關于Exynos W920芯片的詳細解析：一、發(fā)布背景與定位Exynos W920是三星為可穿戴設備量身定做的全新處理器，作為Exynos 9110芯片的繼任者，它在性能、功耗和集成度等方面都有顯著提升。這款芯片在發(fā)布后，首先被應用于Gal......
4G L... Cort... 全球導航...
2021-08-11
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ASML攜手東京電子研發(fā)下一代EUV光刻機，預計2023年投入運行
ASML攜手東京電子研發(fā)下一代EUV光刻機，預計2023年投入運行
英飛凌科技股份公司（Infineon）推出的EiceDRIVER X3 Enhanced和X3 Compact柵極驅動器系列增強型隔離產(chǎn)品，為工業(yè)應用提供了更高水平的安全性和可靠性。以下是對這兩個系列增強型隔離產(chǎn)品的詳細介紹：一、產(chǎn)品概述EiceDRIVER X3 Enhanced系列該系列包括模擬（1ED34xx）和數(shù)字（1ED38xx......
EUV光... 工藝模塊 高蝕刻電...
2021-06-15
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三星電子已決定在得克薩斯州奧斯汀建設 EUV 晶圓廠
三星電子已決定在得克薩斯州奧斯汀建設 EUV 晶圓廠
三星電子確實已決定在得克薩斯州奧斯汀建設EUV晶圓廠，以下是關于該項目的詳細分析：一、項目背景與決策三星電子為了擴大其半導體生產(chǎn)能力和滿足市場對先進制程技術的需求，決定在美國得克薩斯州奧斯汀建設一座采用極紫外光（EUV）技術的晶圓廠。這一決策是基于三星電子對全球半導體市場趨勢的深入分析和對未來需求的預測。二、項目概況投資規(guī)模：該項目預計投......
三星電子 紫外光刻... 代工芯片
2021-05-20
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ASML將赴韓國建EUV設備再制廠及培訓中心，預計2025年建成
ASML將赴韓國建EUV設備再制廠及培訓中心，預計2025年建成
ASML（Advanced Semiconductor Materials Lithography）將赴韓國建設EUV（Extreme Ultraviolet Lithography，極紫外光刻）設備再制廠及培訓中心，預計于2025年建成。以下是關于此項目的詳細解析：一、項目背景ASML是全球唯一的EUV設備生產(chǎn)商，其光刻設備被廣泛應用于......
EUV設... 半導體設... EUV光...
2021-05-18
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ASML 將于今年推出透光率超 90% 的 EUV 防護膜，提高光刻機效率
ASML 將于今年推出透光率超 90% 的 EUV 防護膜，提高光刻機效率
ASML（Advanced Semiconductor Materials Lithography）確實曾計劃在某一時期推出透光率超過90%的EUV（極紫外）防護膜，以提高光刻機的效率。以下是對此事的詳細歸納：一、防護膜的特性與用途透光率：ASML計劃推出的這款EUV防護膜透光率可達90.6%，相較于之前版本的防護膜（透光率約78%），這......
防護膜 EUV光... 光刻機
2021-05-18
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EUV光刻機持續(xù)大賣！ASML一季度凈利大漲240%
EUV光刻機持續(xù)大賣！ASML一季度凈利大漲240%
關于“EUV光刻機持續(xù)大賣！ASML一季度凈利大漲240%”的說法，實際上并不完全準確。根據(jù)我獲取的信息，ASML（阿斯麥）在2024年第一季度的凈利潤并未實現(xiàn)240%的大漲，但其EUV光刻機的銷售情況確實表現(xiàn)強勁。以下是對ASML一季度財務狀況及EUV光刻機銷售情況的詳細分析：一、ASML一季度財務狀況凈銷售額：ASML在2024年第一......
光刻機 ASML EUV設...
2021-04-25
17
英特爾CEO帕特·基辛格宣布“IDM 2.0”戰(zhàn)略，實現(xiàn)制造、創(chuàng)新和產(chǎn)品的全面領先
英特爾CEO帕特·基辛格宣布“IDM 2.0”戰(zhàn)略，實現(xiàn)制造、創(chuàng)新和產(chǎn)品的全面領...
英特爾CEO帕特·基辛格宣布的“IDM 2.0”戰(zhàn)略，是英特爾IDM模式的一項重大革新，旨在實現(xiàn)制造、創(chuàng)新和產(chǎn)品的全面領先。以下是對該戰(zhàn)略的詳細解析：一、戰(zhàn)略背景與目標在競爭日益激烈的半導體行業(yè)中，英特爾面臨著來自臺積電、三星等企業(yè)的強勁挑戰(zhàn)。為了保持領先地位，英特爾需要不斷創(chuàng)新并優(yōu)化其制造、設計和交付流程。因此，帕特·基辛格提出了“ID......
數(shù)據(jù)中心 IDM EUV
2021-03-26
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SK海力士與ASML簽合同：斥資4.8萬億韓元采購EUV光刻機
SK海力士與ASML簽合同：斥資4.8萬億韓元采購EUV光刻機
SK海力士與ASML簽訂的采購EUV光刻機的合同詳情如下：一、合同概述SK海力士與ASML公司簽訂了一項為期5年的采購合同，斥資4.8萬億韓元（約合43.4億美元）購買EUV光刻機。這筆交易旨在確保SK海力士在芯片制造過程中能夠獲得足夠的EUV光刻機，以實現(xiàn)下一代工藝芯片的量產(chǎn)目標。二、合同目的SK海力士在一份監(jiān)管文件中稱，這筆交易是為了......
EUV光... 存儲芯片 邏輯芯片
2021-02-26
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SK 海力士 M16 新廠竣工，將首次使用 EUV 光刻機生產(chǎn)
SK 海力士 M16 新廠竣工，將首次使用 EUV 光刻機生產(chǎn)
SK海力士M16新廠的竣工標志著該公司在半導體生產(chǎn)領域邁出了重要的一步，特別是其首次引入EUV光刻機進行生產(chǎn)，更是引發(fā)了業(yè)界的廣泛關注。以下是對SK海力士M16新廠竣工及EUV光刻機使用的詳細解析：一、M16新廠概況竣工時間：2021年2月1日，SK海力士在韓國京畿道利川總部舉行了M16新廠的竣工儀式。建設歷程：2018年7月：宣布建設M......
光刻機
2021-02-03
16
ASML公布2020年報：營收140億歐元，31臺EUV光刻
ASML公布2020年報：營收140億歐元，31臺EUV光刻
ASML（Advanced Semiconductor Materials Lithography ）在2020年取得了顯著的業(yè)績成果，其公布的2020年年報詳細展示了公司的財務狀況和業(yè)務發(fā)展情況。以下是對ASML 2020年年報中關鍵信息的歸納和分析：一、總體財務狀況營收：ASML在2020年實現(xiàn)了140億歐元的營收。這一數(shù)字顯示了公司......
EUV光...
2021-01-25
20
ASML已完成第100臺EUV光刻機出貨，2021年產(chǎn)能可達45～50臺
ASML已完成第100臺EUV光刻機出貨，2021年產(chǎn)能可達45～50臺
ASML（高級半導體材料光刻公司）已完成第100臺EUV（極紫外）光刻機的出貨，并且在2021年的產(chǎn)能預計可達到45至50臺。以下是對這一事件的詳細分析：一、ASML EUV光刻機出貨情況ASML在某一時間點（具體日期可能因不同報道而略有差異，但均指向相近的時間段）完成了第100臺EUV光刻機的出貨。這一里程碑式的成就標志著EUV光刻機技......
ASML...
2021-01-04
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曝高通正開發(fā)新款中端芯片：5nm EUV 工藝，1＋3＋4 架構
曝高通正開發(fā)新款中端芯片：5nm EUV 工藝，1＋3＋4 架構
關于高通正在開發(fā)的新款中端芯片，其采用5nm EUV工藝和1+3+4架構的信息，可以從以下幾個方面進行歸納：一、芯片基本信息制造商：高通（Qualcomm）工藝制程：5nm EUV架構：1+3+4二、工藝制程詳解5nm EUV工藝：5nm制程是半導體工藝的一個重要節(jié)點，相比之前的制程，它在晶體管密度、功耗和性能上都有所提升。EUV（極紫外......
中端芯片 高通 5nm ...
2020-12-31
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商務部發(fā)聲：希望荷方在華為5G、EUV光刻機等問題上秉持公平立場
商務部發(fā)聲：希望荷方在華為5G、EUV光刻機等問題上秉持公平立場
商務部確實曾發(fā)聲，希望荷方在華為5G、EUV光刻機等問題上秉持公平立場。以下是對這一事件的詳細分析：一、事件背景時間：該事件發(fā)生在2020年12月16日之后，商務部副部長俞建華與荷蘭外交部外貿(mào)與發(fā)展合作大臣卡格共同主持召開中荷經(jīng)貿(mào)混委會第17次會議期間。參與方：商務部與荷蘭政府相關部門。議題：中荷經(jīng)貿(mào)合作，特別是華為5G和EUV光刻機等問......
EUV光...
2020-12-22
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